[发明专利]铝制磁盘的制造方法

权利要求书

1.一种铝制磁盘的制造方法，其包括下述工序1及2：

工序1：使含有成分A的组合物与镀Ni-P的铝合金基板的基板表面接触的工序，所述成分A是选自N-(β-氨基乙基)乙醇胺、N-(β-氨基乙基)异丙醇胺、乙二胺、N-乙基乙二胺、1,2-丙二胺、1,3-丙二胺、N,N-双(氨基丙基)甲基胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺及聚乙烯亚胺中的至少一种化合物，所述组合物的pH为9以上且14以下；

工序2：在工序1中所得的基板上形成磁性层的工序。

2.根据权利要求1所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述工序1是使所述含有成分A的组合物与基板接触，利用水系溶剂进行冲洗并使其干燥的工序。

3.根据权利要求1所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物为水溶液。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述镀Ni-P的铝合金基板是与刚研磨后相比平滑性降低的镀Ni-P的铝合金基板。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物是用于使要形成磁性层的基板表面平滑化的平滑剂组合物。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述成分A是选自N-(β-氨基乙基)乙醇胺、N-(β-氨基乙基)异丙醇胺、乙二胺、N-乙基乙二胺、1,2-丙二胺及二亚乙基三胺中的至少1种。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物的pH为10.5以上且14以下。

8.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物的pH为11.8以上且14以下。

9.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物在使用时的成分A的含量为0.01质量％以上且0.2质量％以下。

10.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物还含有螯合剂、即成分B。

11.根据权利要求10所述的铝制磁盘的制造方法，其中，成分B为选自葡萄糖酸、乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、柠檬酸、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸、巯基乙酸、甘氨酸及它们的盐、以及乙酰丙酮中的至少1种。

12.根据权利要求10所述的铝制磁盘的制造方法，其中，成分B为选自葡萄糖酸、乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸、巯基乙酸、甘氨酸及它们的盐中的至少1种。

13.根据权利要求10所述的铝制磁盘的制造方法，其中，成分B为选自乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、甘氨酸及它们的盐中的至少1种。

14.根据权利要求10所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物在使用时的成分B的含量为0.001质量％以上且0.2质量％以下。

15.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物实质上不包含选自具有芳香族磺酸基的化合物、阴离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂及研磨材料中的至少1种。

16.根据权利要求1～3中任一项所述的铝制磁盘的制造方法，其中，所述含有成分A的组合物还包含螯合剂即成分B、水即成分C、以及除了成分A之外的碱剂即成分D，

所述组合物包含成分A、成分B、成分C及成分D。