[发明专利]铝制磁盘的制造方法

说明书

本发明在一个方案中提供一种铝制磁盘的制造方法，其提高磁性层形成前的基板表面的平滑性，能够高成品率地获得能够介质化的硬盘用基板。本发明在一个方案中涉及一种铝制磁盘的制造方法，其包括下述工序1及2，工序1：使含有具有至少1个下述式(I)所示的结构且分子量为50以上且100,000以下的化合物(成分A)的组合物与镀Ni‑P的铝合金基板的基板表面接触的工序；工序2：在工序1中所得的基板上形成磁性层的工序。

技术领域

本发明涉及铝制磁盘的制造方法、平滑剂组合物及平滑化方法。

背景技术

近年来，在个人电脑或各种电子装置中能够处理动画或声音等大数据，需要大容量的信息记录装置。其结果为对信息记录介质的高记录密度化的要求逐年增高。为了应对此情况，在硬盘中，垂直磁性记录方式的采用、量产化不断发展。在垂直磁性记录方式中，在信息记录介质用基板(以下也称作“硬盘用基板”)中，与当前的基板相比较以更高水准要求基板表面的平滑性。其原因在于，由于高记录密度化而不得不使磁性体微小化，伴随着由微小化所引起的磁性体的磁力降低，需要使记录读取用头相对在硬盘用基板进一步接近，在先前不成问题的基板表面的微小的凹凸影响信息记录装置的可靠性降低或不良率增加。因此，要求硬盘用基板表面的较高的平滑性及较高的清洁度。

作为硬盘用基板所使用的材料，有在表面实施镀镍-磷而得的铝、玻璃等。铝与玻璃相比，由于富有加工性而能够抑制制造费用，得到广泛使用。

在专利文献1中，公开一种具有含Ni-P层的硬盘用基板用清洗剂组合物，其含有特定的丙烯酸系共聚化合物及/或其盐(成分(A))、聚胺(成分(B))及水(成分(C))，实质上不含有非离子性表面活性剂，上述成分(C)除外的成分的重量总和中的上述成分(B)的含量为30～95重量％，上述成分(A)与上述成分(B)的重量比{成分(A)/成分(B)}为0.04～0.8。

在专利文献2中，公开一种磁盘基板用清洗剂，其是含有阴离子性表面活性剂(A)及/或螯合剂(B)而成，且基于磁盘基板用清洗剂的重量的碱金属阳离子的含有率为100ppm以下，在将清洗剂稀释为5重量％的液体的25℃下的pH值为7.0～12.5的刷洗清洗工序中使用。

在专利文献3中，公开一种硬盘基板用清洗剂组合物，其特征在于：含有0.01～5.00质量％的(A)成分：碱金属的氢氧化物、0.10～20.00质量％的(B)成分：1-羟基乙烷-1,1-二膦酸及/或其盐、0.05～10.00质量％的(C)成分：聚氧乙烯烷基醚硫酸盐，表面活性剂的含量不足1.00质量％。

在专利文献4中，公开一种电子材料基板用清洗液，其特征在于：该电子材料基板用清洗液包含水溶性胺(A)，该清洗液的25℃下的pH值为10.5～11.6，且满足(水溶性胺浓度+0.61)/清洗液的pH值≥0.059的条件式。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-257510号公报

专利文献2：日本特开2015-63677号公报

专利文献3：日本特开2011-46807号公报

专利文献4：日本特开2017-50039号公报

发明内容

发明要解决的课题

为了获得基板表面较高的平滑性而利用研磨工序进行精密的研磨，但存在以下情况：即便刚研磨后平滑，在直至在基板表面形成磁性层(以下也称作“介质化”)的保管过程或输送过程中，由于异物的附着或基板表面的氧化，平滑性也降低。

对此，本发明在一个方案中提供一种铝制磁盘的制造方法，其提高磁性层形成前的基板表面的平滑性，能够高成品率地获得能够介质化的硬盘用基板。

用于解决课题的手段