[其他]发光装置、测试晶圆的测试装置

说明书

本实用新型部分实施例提供了一种发光装置、测试晶圆的测试装置。发光装置包括：具有一个端面的容置盒、光处理结构及朝向光处理结构发射用于测试的测试光线的光源；光处理结构至少包括用于使光源发出的测试光线均匀化的第一均光片，第一均光片安装在容置盒内；光源安装在端面上；其中，测试光线经过光处理结构后照射到待测的晶圆。采用实用新型的实施方式，可以使发光装置产生均匀度较高的光源，发光装置结构简单、成本低、体型较小易于安装在晶圆测试机上；同时便于高效的进行多位并行测试。

技术领域

本实用新型涉及检测技术领域，特别涉及一种发光装置、测试晶圆的测试装置。

背景技术

光敏二极管晶圆是一种对光变化非常敏感的半导体器件，其已经广泛应用于各种场合，如应用于光探测器、医疗设备等。因此，光敏二极管晶圆的性能至关重要，故需要对光敏二极管晶圆进行测试。目前，一般利用一套发光装置产生均匀的光强照射光敏二极管晶圆，以对其进行多位并行测试。

发明人发现现有技术至少存在如下问题：现有的用于测试光敏二极管晶圆的发光装置都是很大型的，价格昂贵；同时，不方便安装在光敏二极管晶圆测试机上，无法高效进行多位并行测试；并且需要将电路板安装到发光装置上进行测试，需要订做，不能批量生产。

实用新型内容

本实用新型部分实施例的目的在于提供一种发光装置、测试晶圆的测试装置，将测试光线经过光处理结构进行处理，便可以使发光装置产生均匀度较高的光源，发光装置结构简单、成本低、体型较小易于安装在晶圆测试机上；同时便于高效的进行多位并行测试。

本实用新型的一个实施例提供了一种发光装置，包括：具有一个端面的容置盒、光处理结构及朝向光处理结构发射用于测试的测试光线的光源；光处理结构至少包括用于使光源发出的测试光线均匀化的第一均光片，第一均光片安装在容置盒内；光源安装在端面上；其中，测试光线经过光处理结构后照射到待测的晶圆。

本实用新型实施例还提供了一种测试晶圆的测试装置，包括：电路板、上述的发光装置以及用于控制光源发射测试光线、接收晶圆输出的光感应信号，并根据光感应信号判断晶圆是否合格的控制器；所述晶圆安装在所述电路板上，所述发光装置设置在所述电路板上且对应于所述晶圆；所述控制器电性连接于所述晶圆与所述发光装置中的所述光源；其中，所述测试光线经过所述光处理结构后照射到所述晶圆上。

本实施例相对于现有技术而言，将测试光线经过光处理结构进行处理，便可以使发光装置产生均匀光，发光装置结构简单、成本低、体型较小易于安装在晶圆测试机上；同时便于高效的进行多位并行测试。

另外，光处理结构还包括至少一偏光片；偏光片安装在容置盒内，且面对第一均光片。本实施例通过设置偏光片来衰减测试光线的光强，避免光强过大使待测晶圆饱和。

另外，偏光片的数目为两个，且光处理结构还包括用于调节两个偏光片之间的夹角，以形成光偏振角的调节旋钮；调节旋钮安装在两个偏光片中的至少一个偏光片上。本实施例中，在偏光片上设置调节旋钮，以调整两个偏光片之间的夹角，从而调整测试光线强度的衰减幅度，以调整测试光线的光强度，提供了一种调整测试光线强度的方式。

另外，光处理结构还包括第二均光片；第二均光片安装在容置盒内，第二均光片位于偏光片的一侧，且第一均光片位于偏光片的另一侧。本实施例中，增加第二均光片，以对经过偏光片的测试光线进行均匀化处理，使得照射到待测晶圆上的测试光线更均匀。

另外，发光装置还包括多个用于检测经过光处理结构的测试光线的光强度的光线检测元件；多个光线检测元件安装在容置盒的内壁且均匀分布。本实施例中，设置光线检测元件，检测测试光线的光强度以及一致性，以对测试光线进行调整。

另外，光处理结构还包括第三均光片；第三均光片安装在容置盒内，且位于第一均光片与多个光线检测元件之间。本实施例于发光装置中设置第三均光片，进一步对测试光线进行均匀化处理，以使测试光线满足待测晶圆的要求。