[发明专利]掩模板探伤装置及探伤方法

说明书

本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染，从而避免产生批量产品的不良，还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板探伤装置及探伤方法。

背景技术

曝光机在显示器和触控屏的制造工艺中具有重要的作用。现有技术中，根据曝光方式的不同，曝光机可以分为Lens Projection(棱镜投影式)、Mirror Projection(镜面投影式)、Proximity(接近式)、以及Contact(接触式)四大类。其中，接近式曝光机因其较低的成本以及合适的解析度而广泛的应用于彩膜基板以及触摸屏等领域的制造。

在实际生产中的曝光流程如下：首先，在生产前将掩模板加载至待曝光区域；然后，在生产时待曝光基板会被放置在曝光台上，通过各个方向的协调以将曝光台移动至待曝光区域，并与掩模板实现精确的位置匹配，且掩模板与待曝光基板之间的间距保持在150～400um；此时，掩模板上方的光源遮光罩打开以对待曝光基板进行曝光，并在达到设定的曝光时间时关闭遮光罩以结束曝光；最后，曝光台下降并移动至卸载区域，以实现曝光后基板的卸载。

基于上述过程，在使用接近式曝光机进行曝光时，由于待曝光基板与掩模板之间的间距极小(约为150～400um)，因此基板表面的微小异物以及曝光机动作时引起环境中扰动的异物很容易引发掩模板的损伤，而现有技术无法做到及时的发现掩模板损伤，这样便会造成批量产品的不良，同时导致无法继续生产，从而造成产能损失。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

根据本公开的一个方面，提供一种掩模板探伤装置，包括：

光量接收器，设置于掩模板载物台的一端并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；

光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；

计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；

报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

本公开的一种示例性实施例中，所述计算模块包括：

信号存储单元，用于存储基于未损伤的参考掩模板经过所述光电转换而得到的参考电信号。

本公开的一种示例性实施例中，所述计算模块包括：

阈值设定单元，用于为所述掩模板的探伤设定所述阈值范围。

本公开的一种示例性实施例中，所述阈值设定单元包括：

第一阈值设定子单元，用于获取基于携带颗粒的第一掩模板经过所述光电转换而得到的第一电信号，并根据所述第一电信号与所述参考电信号设定阈值下限；