[发明专利]一种靶材刻蚀量测量装置

说明书

本发明实施例提供一种靶材刻蚀量测量装置，涉及物理气相沉积领域，解决人为判断固定点并对该点进行测量，导致靶材刻蚀量的测量精度较低的问题。该靶材刻蚀量测量装置包括采集部和测量部；采集部包括测量针框架以及设置于测量针框架内的多排测量针；多排测量针的测量端用于与靶材的至少一部分刻蚀面相接触，并形成与测量针相接触的刻蚀面相匹配的模拟面；测量部与形成模拟面后的采集部相互对合，测量部用于与模拟面凸起尺寸最大处的测量针的测量端相接触，并测得刻蚀面凹陷的最大深度。该靶材刻蚀量测量装置用于对靶材的刻蚀面的刻蚀深度进行测量。

技术领域

本发明涉及物理气相沉积领域，尤其涉及一种靶材刻蚀量测量装置。

背景技术

PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)技术在机械、电子、半导体等多个领域有着广泛的应用。PVD技术制备薄膜的原理为：在真空溅镀设备中，溅射源在电场的作用下产生加速电子，加速电子与预先通入的惰性气体(通常为Ar气)碰撞得到带正电的粒子，带正电的粒子受到阴极(靶材)的吸引而轰击靶材表面的原子，被轰击出来的靶材原子具有一定的动能，转移至玻璃衬底上沉积而形成薄膜。

然而，随着靶材的不断消耗，其表面会逐渐形成不规则的刻蚀曲面，当曲面最大深度几近靶材自身厚度时，靶材寿命达到最大值，如果此时继续使用该靶材，将导致靶材击穿的现象发生，从而影响产品质量，增加工艺风险。

现有技术中，为了解决上述问题，可以利用深度计对平面靶材固定点的刻蚀深度进行测量。然而，实际生产过程中，靶材的刻蚀曲面是不规则的，因此人为判断上述固定点的位置会产生较大的主观误差，从而降低了靶材刻蚀量的测量精度。

发明内容

本发明的实施例提供一种靶材刻蚀量测量装置，用于解决人为判断固定点并对该点进行测量，导致靶材刻蚀量的测量精度较低的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本申请实施例提供一种靶材刻蚀量测量装置，包括采集部和测量部；所述采集部包括测量针框架以及设置于所述测量针框架内的多排测量针；所述多排测量针的测量端用于与靶材的至少一部分刻蚀面相接触，并形成与所述测量针相接触的刻蚀面相匹配的模拟面；所述测量部与形成所述模拟面后的所述采集部相互对合，所述测量部用于与所述模拟面凸起尺寸最大处的测量针的测量端相接触，并测得所述刻蚀面凹陷的最大深度。

可选的，所述测量部包括支架以及安装于所述支架上的测量尺；所述支架和所述测量针框架的内侧设置有轨道；在采集部与所述测量部对合的情况下，所述测量尺用于沿所述支架上的轨道移动至所述测量针框架上的轨道，并与所述模拟面凸起尺寸最大处的测量针的测量端相接触。

可选的，构成所述测量针框架和所述测量针的材料为软磁材料；所述测量针框架内部设置有电磁线。

可选的，所述采集部还包括安装于所述测量针框架上的振动器；所述振动器用于驱动所述测量针沿平行于该测量针横截面的方向振动。

可选的，所述测量尺的侧面设置有第一刻度线；所述支架靠近所述采集部的一端设置有第二刻度线；其中，所述第一刻度线所在的表面与所述第二刻度线所在的表面平行；所述测量针框架与所述支架对合形成的接触面位于所述第二刻度线的零刻度；所述第一刻度线与所述第二刻度线的最小刻度值相同。

可选的，所述测量尺的厚度大于或等于所述靶材的厚度。

可选的，所述测量针框架与所述支架相对的表面设置有第一卡合结构；所述支架与所述测量针框架相对的表面设置有与所述第一卡合结构相配合的第二卡合结构。

可选的，所述测量尺在靠近所述轨道的一侧设置有滚珠。

可选的，所述测量部还包括推杆和把手；所述推杆的一端安装于所述测量尺的背面，所述测量尺的背面和所述测量尺与所述模拟面相接触的表面相对设置；所述把手安装于所述推杆的另一端。