[发明专利]一种靶材组件、溅射系统及靶材层消耗状况的监控方法

权利要求书

1.一种靶材组件，包括：基板、设置在所述基板表面的靶材层；其特征在于，所述靶材组件还包括：

内嵌在所述靶材层中或者设置在所述基板与所述靶材层之间的吸附层，所述吸附层配置为吸附预设气体。

2.根据权利要求1所述的靶材组件，其特征在于，所述靶材层包括远离所述基板的第一表面；所述第一表面划分有预设区域，所述靶材层对应于所述预设区域的部分为易于被溅射穿的部分；

所述预设区域在所述基板上的正投影与所述吸附层在所述基板上的正投影完全重叠。

3.根据权利要求1所述的靶材组件，其特征在于，所述吸附层由吸附介质构成，所述吸附介质的粒径小于3nm。

4.根据权利要求1所述的靶材组件，其特征在于，所述吸附层由吸附介质构成，所述吸附介质包括多孔配位聚合物、碳纳米管、沸石分子筛中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的靶材组件，其特征在于，所述预设气体为氢气。

6.根据权利要求1所述的靶材组件，其特征在于，所述基板包括：背板和绑定层；所述绑定层位于所述背板与所述靶材层之间。

7.一种溅射系统，其特征在于，所述溅射系统包括溅射装置；所述溅射装置包括：

腔室；

设置在所述腔室内的如权利要求1至6任一项所述的靶材组件；

气体流量监测单元，所述气体流量监测单元配置为监测通入到所述腔室内的所述预设气体的流量变化。

8.根据权利要求7所述的溅射系统，其特征在于，所述溅射系统还包括：

报警单元，所述报警单元配置为在所述气体流量监测单元监测到的所述预设气体的流量变化超过参考值时发出报警。

9.根据权利要求7所述的溅射系统，其特征在于，所述溅射系统还包括：

控制单元，所述控制单元配置为在所述气体流量监测单元监测到的所述预设气体的流量变化超过参考值时控制所述溅射装置终止溅射。

10.一种溅射系统中靶材层消耗状况的监控方法，其特征在于，所述溅射系统为权利要求7至9任一项所述的溅射系统，所述监控方法包括：

接通电源，并向所述腔室内通入所述预设气体，使所述溅射装置开始溅射；

开启所述气体流量监测单元，以监测通入到所述腔室内的所述预设气体的流量变化；

当所述流量变化超过参考值时，使所述溅射装置终止溅射。