[发明专利]一种1064nm波段高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜制作方法在审
| 申请号： | 201810012130.5 | 申请日： | 2018-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN108287413A | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 刘瑞斌;姜海 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人： | 王民盛 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振分光镜 分光镜 消光比 膜结构 半角 基底 损伤 大功率激光系统 偏振分光膜 调Q激光器 更换频率 光学薄膜 集成系统 透明 入射角 增透膜 波段 制作 应用 | ||
1.一种高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜，其特征在于：该高损伤阈值分光镜包括有透明基底，所述透明基底的两侧均镀有膜结构，其中一侧镀有偏振分光膜，另一侧镀有增透膜，所述分光镜两侧膜结构的入射角均定义为45°±3°；所述的分光膜对应波长为1064nm，同时调整设计曲线的中心波长能够将对应波长调整到从400-2000nm中的任一点波长；所述的高损伤阈值为激光功率10J，脉宽10ns，波长对应在1064nm。
2.一种1064nm高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜的制作方法，具体步骤如下：
步骤一、镀膜材料选用进口HfO2和SiO2材料，利用TFCALC35薄膜设计软件在1064nm处设计1个堆栈，使P光在1050-1100nm波段有较高的透过率，P光在1050-1100nm波段平均透过率在99％左右，另外使S光在1030-1080nm波段有较高的反射率，S光在1030-1080nm波段平均透过率在0.02％以下；
步骤二、分光膜层数为20-100层，由HfO2和SiO2材料交替叠加镀制而成，前多层为规整膜层，后4层根据要求在TFCALC35软件中自动进行目标值优化，确保1064nm±10nm的P光和S光满足设计要求；
步骤三、在镀制分光镜时，采用了日本光驰镀膜机OTFC-1300，采用RF射频离子辅助系统和光控自动控制系统，即得到1064nm高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜。
3.如权利要求1所述的一种高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜，其特征在于：所述透明基底的材料为光学玻璃。
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