[发明专利]一种图案化的金属导线和基板的组合

权利要求书

1.一种用于刻蚀包括铜层的金属层的刻蚀剂组合物，包括：

按重量计40％至按重量计60％的磷酸；

按重量计1％至按重量计10％的硝酸；

按重量计3％至按重量计15％的乙酸；

按重量计0.01％至按重量计0.1％的铜离子化合物；

按重量计1％至按重量计10％的硝酸盐；

按重量计1％至按重量计10％的乙酸盐；和

余量的水。

2.根据权利要求1所述的刻蚀剂组合物，其中，所述铜离子化合物包括选自由CuSO₄·5H₂O、CuSO₄·3H₂O、Cu(NO₃)₂·3H₂O和Cu₂P₂O₇·3H₂O组成的组中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的刻蚀剂组合物，其中，所述硝酸盐包括选自由NH₄NO₃、NaNO₃、KNO₃、LiNO₃、Mg(NO₃)₂、Al(NO₃)₃、Zn(NO₃)₂、Fe(NO₃)₃、Ni(NO₃)₂和Ca(NO₃)₂组成的组中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的刻蚀剂组合物，其中，所述乙酸盐包括选自由CH₃CO₂NH₄、CH₃CO₂Na、CH₃CO₂K、Mg(CH₃CO₂)₂、Ca(CH₃CO₂)₂、Al(CH₃CO₂)₃和CH₃CO₂Li组成的组中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的刻蚀剂组合物，进一步包括按重量计至多1％的氟代金属酸。

6.根据权利要求5所述的刻蚀剂组合物，其中，所述氟代金属酸包括选自由H₂SiF₆、HBF₄、H₂TiF₆和H₂ZrF₆组成的组中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的刻蚀剂组合物，其中，所述铜层包括铜或铜合金。

8.一种制造显示基板的方法，所述方法包括：

在基础基板上形成包括铜层的金属层；

在所述金属层上形成光致抗蚀剂图案；和

为具有所述金属层和所述光致抗蚀剂图案的所述基础基板提供刻蚀剂组合物以部分除去所述金属层从而形成信号线，其中所述刻蚀剂组合物包括：按重量计40％至按重量计60％的磷酸；按重量计1％至按重量计10％的硝酸；按重量计3％至按重量计15％的乙酸；按重量计0.01％至按重量计0.1％的铜离子化合物；按重量计1％至按重量计10％的硝酸盐；按重量计1％至按重量计10％的乙酸盐；和余量的水。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述金属层进一步包括设置在所述铜层之上包含铟和锌的氧化物层。