[发明专利]承载盘

说明书

一种承载盘，包含承载顶面，及挡液环面。承载顶面具有环形外端缘。挡液环面环绕于所述承载顶面外周围并具有环形上端缘，所述环形上端缘沿纵向的高度低于所述环形外端缘的高度且两者相间隔第一距离，所述环形上端缘沿垂直于所述纵向的横向位于所述环形外端缘外侧且两者相间隔第二距离，所述承载盘界定出位于所述环形外端缘与所述环形上端缘之间且环绕于所述承载顶面外周围的环形凹槽。借由挡液环面及环形凹槽的设计，能防止处理液或清洗液渗流入承载顶面与基板的背面之间并且附着于背面上。

技术领域

本发明涉及一种承载盘，特别是涉及一种用以承载基板并能带动其旋转的承载盘。

背景技术

现有用以对例如为晶圆的基板进行加工处理的处理设备包括有一承载盘，及一围绕设置于承载盘外周围的外罩。当处理设备对基板进行加工处理时，承载盘吸附于基板的一背面并带动基板旋转，同时，处理设备会供应处理液至旋转的基板上。

在前述加工过程中，处理液会因基板的旋转而向外飞散至外罩处。在承载盘带动基板高速旋转的运作环境下，飞散至外罩的处理液容易被外罩反弹回基板下方及承载盘的一外周面处，此时处理液易渗流入承载盘顶面与基板的背面之间进而附着在基板的背面。如此一来，前述渗流入承载盘与基板之间且附着在基板的背面的处理液便无法被冲洗喷嘴所喷出的清洗液所清洗掉，导致经由处理设备处理完成并且输出的基板会残留有一圈的处理液痕迹。

发明内容

因此，本发明的一目的，在于提供一种承载盘，能防止制程中处理液或清洗液渗流入承载顶面与基板的背面之间。

本发明的目的及解决背景技术问题是采用于下技术方案来实现的，依据本发明提出的承载盘包含承载顶面，及挡液环面，所述承载顶面具有环形外端缘，所述挡液环面环绕于所述承载顶面外周围并具有环形上端缘，所述环形上端缘沿纵向的高度低于所述环形外端缘的高度且两者相间隔第一距离，所述环形上端缘沿垂直于所述纵向的横向位于所述环形外端缘外侧且两者相间隔第二距离，所述承载盘界定出位于所述环形外端缘与所述环形上端缘之间且环绕于所述承载顶面外周围的环形凹槽。

在一些实施态样中，承载盘还界定出与所述环形凹槽相连通的排液流道。

在一些实施态样中，所述挡液环面还具有由所述环形上端缘朝下并朝外倾斜延伸的锥形面部。

在一些实施态样中，承载盘包含盘体，及设置于所述盘体外周围的挡液环，所述盘体具有所述承载顶面，所述挡液环具有所述挡液环面，所述盘体与所述挡液环共同界定出所述环形凹槽。

在一些实施态样中，所述盘体与所述挡液环还共同界定出与所述环形凹槽相连通的排液流道。

在一些实施态样中，所述盘体包括顶壁，及围绕壁，所述顶壁具有所述承载顶面，及由所述环形外端缘朝下延伸的外周面，所述围绕壁由所述外周面底端朝下凸伸，所述挡液环具有底壁，及外周壁，所述底壁一体成型地由所述围绕壁径向朝外凸伸，所述外周壁由所述底壁外周缘朝上凸伸并与所述围绕壁相间隔且具有所述挡液环面，所述排液流道具有由所述围绕壁、所述底壁及所述外周壁共同界定出并与所述环形凹槽相连通的环形进液槽，及多个由所述挡液环面朝内凹陷并与所述环形进液槽相连通的排液孔。

在一些实施态样中，所述外周面为由所述环形外端缘朝下并朝内倾斜延伸的倒锥面，所述围绕壁具有围绕面，及由所述外周面底端径向朝外延伸且连接所述围绕面顶端的肩面。

在一些实施态样中，所述盘体包括顶壁、围绕壁，及承托壁，所述顶壁具有所述承载顶面，及由所述环形外端缘朝下延伸的外周面，所述围绕壁由所述外周面底端朝下凸伸，所述承托壁由所述围绕壁径向朝外凸伸并呈环形状，所述挡液环具有下壁，及外周壁，所述下壁抵接于所述承托壁上，所述外周壁由所述下壁外周缘朝上凸伸并与所述围绕壁相间隔且具有所述挡液环面，所述排液流道具有由所述围绕壁、所述下壁及所述外周壁共同界定出并与所述环形凹槽相连通的环形进液槽，及多个由所述挡液环面朝内凹陷并与所述环形进液槽相连通的排液孔。