[发明专利]一种废料排出装置及方法有效

专利信息
申请号: 201810040813.1 申请日: 2018-01-16
公开(公告)号: CN108247202B 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 龙跃;童振霄;姚远;王杨;刘庭良;刘阳升 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: B23K26/142 分类号: B23K26/142;B23K26/38
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 周娟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 废料排出装置 切割图案 吸附孔 吸附控制单元 外围区域 吸附平台 切割 显示面板 异形切割 异形显示 排出 应用
【权利要求书】:

1.一种废料排出装置,其特征在于,包括吸附平台和吸附控制单元,所述吸附平台包括切割图案形成区域,以及位于所述切割图案形成区域周向的切割图案外围区域;所述切割图案形成区域开设有多个第一吸附孔,所述切割图案外围区域开设有多个第二吸附孔;各个所述第一吸附孔和各个所述第二吸附孔分别与吸附控制单元连接;

切割状态,所述第一吸附孔的内部压力和所述第二吸附孔的内部压力均小于外界压力;排废状态,所述第一吸附孔的内部压力小于外界压力,所述第二吸附孔的内部压力大于等于外界压力。

2.根据权利要求1所述的废料排出装置,其特征在于,所述废料排出装置还包括废料收集单元,以及用于控制所述吸附平台翻转的翻转机构,所述吸附平台设在所述翻转机构上,所述吸附平台位于所述废料收集单元的收集口上方;

切割状态,所述第一吸附孔的孔口与所述第二吸附孔的孔口均背离所述废料收集单元的收集口;排废状态,所述第一吸附孔的孔口与所述第二吸附孔的孔口均与所述废料收集单元的收集口相对。

3.根据权利要求2所述的废料排出装置,其特征在于,所述切割图案外围区域上设有多个升降柱,相邻两个所述第二吸附孔之间具有至少一个升降柱;

切割状态,所述升降柱的顶端与所述第二吸附孔的孔口平齐;排废状态,所述升降柱的顶端超过所述第二吸附孔的孔口。

4.根据权利要求2所述的废料排出装置,其特征在于,所述翻转机构包括驱动机构,以及设在驱动机构的动力输出端的平台支架,所述驱动机构位于所述吸附平台的侧面,所述吸附平台设在所述平台支架上,所述第一吸附孔的孔口和所述第二吸附孔的孔口位于所述吸附平台背离所述平台支架的表面。

5.根据权利要求1所述的废料排出装置,其特征在于,所述废料排出装置还包括用于粘附切割对象对应切割图案外围区域的部分所形成的切割废料的自粘滚轮;

所述排废状态,所述第二吸附孔的内部压力等于外界压力。

6.根据权利要求1~5任一项所述的废料排出装置,其特征在于,所述切割图案形成区域和所述切割图案外围区域之间设有用于限定切割轨迹的凹槽,所述凹槽的开口图案与切割轨迹重合;

所述凹槽内沿着切割轨迹设有多个第三吸附孔,各个所述第三吸附孔与所述吸附控制单元连接;

切割状态,所述第三吸附孔的内部压力小于外界压力;排废状态,所述第三吸附孔的内部压力大于等于外界压力。

7.根据权利要求1~5任一项所述的废料排出装置,其特征在于,所述废料排出装置还包括平台清洁机构,所述平台清洁机构包括运动导轨以及设在运动导轨上的滚轮支架,所述滚轮支架上安装有清洁滚轮;所述吸附平台的侧面设有用于盛放清洁液的清洁槽;和/或,

所述废料排出装置还包括对位单元,所述对位单元用于实现切割对象与吸附平台对位。

8.一种废料排出方法,其特征在于,应用权利要求1所述的废料排出装置,所述废料排出方法包括:

将切割对象置于吸附平台上,利用吸附控制单元控制第一吸附孔的内部压力和所述第二吸附孔的内部压力均小于外界压力,使得切割对象吸附在吸附平台上;

在所述切割对象切割完毕后,所述切割对象对应切割图案形成区域的部分形成切割体,所述切割对象对应切割图案外围区域的部分形成切割废料;

利用吸附控制单元控制第二吸附孔的内部压力大于等于外界压力,使得所述切割废料脱离吸附状态,将切割废料从吸附平台移除。

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