[发明专利]一种掩模板、显示基板以及显示装置

说明书

本发明涉及显示装置制作技术领域，公开了一种掩模板、显示基板以及显示装置，以提高显示装置的分辨率，从而提高显示装置的显示品质。掩模板包括：基板、以及位于基板一侧且相对设置的第一曝光结构和第二曝光结构，其中：第一曝光结构包括第一透光膜层和第一遮光膜层，第一遮光膜层在基板上的正投影落入第一透光膜层在基板上的正投影内；第二曝光结构包括第二透光膜层和第二遮光膜层，第二遮光膜层在基板上的正投影落入第二透光膜层在基板上的正投影内；第一曝光结构靠近第二曝光结构的侧边具有第一锯齿状结构，第二曝光结构靠近第一曝光结构的侧边具有第二锯齿状结构。

技术领域

本发明涉及显示装置制作技术领域，特别是涉及一种掩模板、显示基板以及显示装置。

背景技术

在平板显示装置中，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。

在TFT-LCD的制备过程中，通常采用如图1所示的相移掩模板(Phase Shift Mask，简称PSM)对TFT进行曝光处理，以使各金属走线的间距减小，从而增加像素单元的数量，进而得到分辨率较高的TFT-LCD。

本申请的发明人在实现本申请过程中发现，采用现有技术中的PSM进行曝光时只能在有限范围内提高TFT-LCD的分辨率，当对TFT-LCD的分辨率要求更高时，该PSM不再适用。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种掩模板、显示基板以及显示装置，以提高显示装置的分辨率，从而提高显示装置的显示品质。

本发明实施例提供了一种掩模板，包括基板、以及位于所述基板一侧且相对设置的第一曝光结构和第二曝光结构，其中：

所述第一曝光结构包括第一透光膜层和第一遮光膜层，所述第一遮光膜层在所述基板上的正投影落入所述第一透光膜层在所述基板上的正投影内；

所述第二曝光结构包括第二透光膜层和第二遮光膜层，所述第二遮光膜层在所述基板上的正投影落入所述第二透光膜层在所述基板上的正投影内；

所述第一曝光结构靠近所述第二曝光结构的侧边具有第一锯齿状结构，所述第二曝光结构靠近所述第一曝光结构的侧边具有第二锯齿状结构。

采用本技术方案的掩模板，由于第一曝光结构和第二曝光结构相靠近的侧边分别设置有锯齿状结构，因此在使用该掩模板对显示基板等需要曝光的部件进行曝光时，可以加强光在锯齿状结构间的干射以及衍射效果，从而使光线较为集中，提高透光光强，能够满足较小尺寸的曝光要求，从而能够提高应用该掩模板形成的显示装置的分辨率，进而提高显示装置的显示品质。

可选的，所述第一透光膜层位于所述第一遮光膜层和所述基板之间，或所述第一遮光膜层位于所述第一透光膜层和所述基板之间；所述第二透光膜层位于所述第二遮光膜层和所述基板之间，或所述第二遮光膜层位于所述第二透光膜层和所述基板之间。

可选的，所述第一锯齿状结构仅形成于所述第一透光膜层，所述第二锯齿状结构仅形成于所述第二透光膜层。

可选的，所述第一遮光膜层靠近所述第二曝光结构的侧边在所述基板上的正投影线重合于所述第一锯齿状结构的齿根线在所述基板上的正投影线，所述第二遮光膜层靠近所述第一曝光结构的侧边在所述基板上的正投影线重合于所述第二锯齿状结构的齿根线在所述基板上的正投影线。

可选的，所述第一遮光膜层靠近所述第二曝光结构的侧边在所述基板上的正投影线与所述第一锯齿状结构的齿根线在所述基板上的正投影线相间隔，所述第二遮光膜层靠近所述第一曝光结构的侧边在所述基板上的正投影线与所述第二锯齿状结构的齿根线在所述基板上的正投影线相间隔。