[发明专利]一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法有效

专利信息
申请号: 201810046831.0 申请日: 2018-01-18
公开(公告)号: CN108387561B 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 杨成;宋彩侨;孙迎迎 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 李晓亮;潘迅
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 核酸适配体 碱基 荧光 靶标分子 互补序列 结合区域 原理实现 低成本 高通量 优序列 优化 淬灭 短链 探针 分子生物学领域 短核酸序列 荧光素标记 标记荧光 核酸序列 结合能力 强度判断 荧光序列 新设计 长链 对位 截短 分割
【权利要求书】:

1.一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于以下步骤:

(1)将已获得长链核酸适配体作为候选核酸适配体,分成若干个含有G碱基的段,其中每一个段至少含有一个G碱基;

(2)对第一步得到的若干个含有G碱基的段分别设计互补序列,使得互补序列的3’端的对位有G碱基;

(3)根据核酸适配体与靶标分子的结合能力,设计合适的互补短链的长度,并对互补短链进行荧光素标记;

(4)室温下,将核酸适配体与靶标分子在结合溶液中反应5-30分钟后,加入荧光素标记的互补短链,根据荧光强度判断各个区域对结合的影响,判断结合区域;所述的结合溶液包括溶剂和溶质,其中,溶剂为水;溶质包括NaCl,钙离子或镁离子,Tris-HCl缓冲溶液,表面活性剂;

(5)以与中心结合区域互补的探针为指示,通过截短、分割手段获得能与靶标分子结合的最短核酸序列,作为解析序列;所述的解析序列的长度范围根据候选核酸适配体的不同进行调整。

2.根据权利要求1所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(1)所述的候选核酸适配体为一种序列或多种序列,包括60-100个碱基。

3.根据权利要求1或2所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(3)所述的互补短链长度为8-15个碱基。

4.根据权利要求1或2所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(5)所述的解析序列的长度为14-45个碱基。

5.根据权利要求3所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(5)所述的解析序列的长度为14-45个碱基。

6.根据权利要求1或2或5所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(4)所述的结合溶液中NaCl的浓度为80-200nM;钙离子或者镁离子的浓度为1-30mM;Tris-HCl缓冲溶液的浓度为10-30mM,pH为5-10;表面活性剂为Tween20,其质量分数为0.01%-0.2%。

7.根据权利要求3所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(4)所述的结合溶液中NaCl的浓度为80-200nM;钙离子或者镁离子的浓度为1-30mM;Tris-HCl缓冲溶液的浓度为10-30mM,pH为5-10;表面活性剂为Tween20,其质量分数为0.01%-0.2%。

8.根据权利要求4所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(4)所述的结合溶液中NaCl的浓度为80-200nM;钙离子或者镁离子的浓度为1-30mM;Tris-HCl缓冲溶液的浓度为10-30mM,pH为5-10;表面活性剂为Tween20,其质量分数为0.01%-0.2%。

9.根据权利要求1或2或5或7或8所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(3)所述的靶标为小分子、大分子、细胞及病原体。

10.根据权利要求6所述的一种基于碱基淬灭荧光原理实现低成本高通量核酸适配体最优序列的优化方法,其特征在于,步骤(3)所述的靶标为小分子、大分子、细胞及病原体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810046831.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top