[发明专利]一种抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种抛光液，其特征是，所述抛光液按质量百分比，包括1~25%的磨料颗粒和75~99%的基液，所述磨料颗粒为平均粒径为0.5~50微米的金刚石颗粒，

所述基液按下述方法制备所得， 包括下述工艺步骤：

（1）将SiO₂纳米粒子与硅烷偶联剂和乙二醇按质量比为100:1~2:5~10混合后进行球磨，球磨时间至少0.5h，球磨后进行干燥，得到预处理的SiO₂纳米粒子；

（2）将顺丁烯二酸酐按与水的质量比为15~50:100溶于水中，90～105℃，在过硫酸铵存在下使其与丙烯酸反应4~6 h，反应同时向反应液内滴加质量分数为30~40%NaOH溶液，反应完毕后调节溶液pH值为7~7.5，得共聚物溶液，其中，顺丁烯二酸酐与丙烯酸的摩尔比1:0.5~2，过硫酸铵与顺丁烯二酸酐的摩尔比为0.1~5:100；

（3）将步骤（1）所得预处理的SiO₂纳米粒子按0.5~5g:10mL溶于步骤（2）所得共聚物溶液中，超声分散，干燥；将干燥所得SiO₂纳米粒子按与介质溶剂的质量比为10:4~8分散于介质溶剂中，超声分散，得抛光液用基液。

2.根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述步骤（1）中，所述SiO₂纳米粒子的平均粒径为50nm~200nm。

3.根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述步骤（1）中，所述球磨转速为800~2000r/min。

4.根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述步骤（2）中，所述顺丁烯二酸酐与水的质量比为28~35:100。

5.根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述步骤（2）中，所述顺丁烯二酸酐与丙烯酸的摩尔比为1:1~1.5；所述过硫酸铵与顺丁烯二酸酐的摩尔比为0.5~2.7:100。

6.根据权利要求1所述的抛光液其特征是，所述步骤（3）中，所述介质溶剂为聚乙二醇、乙二醇、丙三醇中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的抛光液，其特征是，所述聚乙二醇的平均分子量为200~2000。

8.根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述硅烷偶联剂为硅烷偶联剂KH570、硅烷偶联剂KH-560、硅烷偶联剂Si69中的一种。

9.根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述抛光液按质量百分比，由1~25%的磨料颗粒和75~99%的基液组成。