[发明专利]一种用于深度图像边界拟合的双抛物线分区模板优化方法

权利要求书

1.一种用于深度图像边界拟合的双抛物线分区模板优化方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、根据双抛物线模板生成的方法生成若干双抛物线分区模板并组成分区模板库；

步骤2、对分区模板库中的所有分区模板的命中情况进行统计，统计结果呈拉普拉斯分布，根据拉普拉斯分布图的曲线平缓程度将所有的分区模板分为命中次数在前α％、中间β％和最后γ％；

对命中次数在前α％的分区模板进行优化，优化后的分区模板作为对应模板的二维分区模板；

对命中次数在中间β％的分区模板，保留；

对命中次数在最后γ％的分区模板，删除；

步骤3、在将深度块与分区模板进行匹配时，若搜索到相匹配的分区模板为α％，则搜索对应的二维分区模板是否匹配；若搜索到中间β％的分区模板相匹配，则结束。

2.根据权利要求1所述的双抛物线分区模板优化方法，其特征在于，步骤1中，分区模板库中还包括折线模板，折线模板的生成方法包括以下步骤：

对起始点S(x₁,y₁)、终点E(x₂,y₂)和空间中第三点P(x₃,y₃)的遍历；已知起始点S(x₁,y₁)、终点E(x₂,y₂)和空间中第三点P(x₃,y₃)的坐标，连接SP和EP构成分区分割线，离散化后将分割线的两侧分别赋值0/1，归为两个分区，形成折线模板。

3.根据权利要求1或2所述的双抛物线分区模板优化方法，其特征在于，步骤2中，对命中次数在前α％的分区模板进行优化，优化方法包括：

将起始点S(x₁,y₁)、终点E(x₂,y₂)和空间中第三点P(x₃,y₃)坐标调整为：S(x₁±Δ,y₁)或S(x₁,y₁±Δ)，E(x₂±Δ,y₂)或E(x₂,y₂±Δ)，P(x₃±Δ,y₃±Δ)。对于16×16的模板，Δ为0～1；对于32×32的模板，Δ为0～2。