[发明专利]一种基板固定载具、蒸镀设备及蒸镀方法有效
申请号: | 201810074497.X | 申请日: | 2018-01-25 |
公开(公告)号: | CN108203812B | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 刘锦东;范超龙;刘乐;杨小翠 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 11274 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀基板 冷却板 蒸镀 支撑框架 中空区域 基板固定 载具 支撑 相向移动 蒸镀设备 长方形结构 长边 短边 良率 内壁 | ||
本发明公开一种基板固定载具、蒸镀设备及蒸镀方法,涉及蒸镀技术领域,以提高蒸镀过程的效率,并提高对待蒸镀基板进行蒸镀后的良率。该基板固定载具包括支撑框架和冷却板,支撑框架中部具有中空区域,支撑框架对应于中空区域的内壁上设置有支撑部;冷却板与支撑框架可相向移动,冷却板与支撑框架相向移动时,冷却板落入中空区域内,冷却板的边缘与支撑部相对;对待蒸镀基板蒸镀时,待蒸镀基板位于中空区域内,待蒸镀基板的边缘位于支撑部上,待蒸镀基板呈长方形结构,冷却板对应于待蒸镀基板的长边的边缘与对应的支撑部之间的间距大于或等于待蒸镀基板的厚度,冷却板对应于待蒸镀基板的短边的边缘与对应的支撑部之间的间距小于待蒸镀基板的厚度。
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种基板固定载具、蒸镀设备及蒸 镀方法。
背景技术
蒸发镀膜法(简称蒸镀法)是通过蒸镀源对蒸镀材料进行加热,使蒸镀 材料的原子或分子从其表面气化逸出形成蒸汽流,入射到待蒸镀基板表面, 凝结形成固态薄膜的方法。蒸镀法已经广泛应用于显示器件的制作过程,例 如OLED显示面板的阴极、阳极以及位于阴极和阳极之间的发光材料层。
现有的蒸镀设备通常包括掩膜版载具和位于掩膜版载具上方的基板固定 载具,其中,基板固定载具包括冷却板和具有中空区域的支撑框架,支撑框 架上对应于中空区域的内壁设置有支撑部,冷却板位于支撑框架上方,且冷 却板与支撑框架可相向移动,冷却板与支撑框架相向移动时,冷却板落入中 空区域内,且冷却板的边缘与支撑部相对。当对待蒸镀基板进行蒸镀时,待 蒸镀基板位于支撑框架的中空区域内,待蒸镀基板的边缘位于支撑部上,使 支撑框架与冷却板相向移动,以对待蒸镀基板的边缘进行夹持。
目前,支撑框架与冷却板对待蒸镀基板进行夹持时,通常使冷却板的边 缘的各部位与对应的支撑部之间的间距(Finger Gap)均保持一致,且该间距 通常小于待蒸镀基板的厚度,此时,待蒸镀基板的边缘各部位均处于被夹紧 的状态,待蒸镀基板在平行于该待蒸镀基板的各方向上均保持张紧状态,而 在现有的蒸镀设备中,位于基板固定载具下方的掩膜版载具并不对掩膜版夹 紧,只是对掩膜版进行支撑,因而安装在掩膜版载具上的掩膜版通常在平行 于该掩膜版的各方向上均保持松弛状态,即掩膜版处于自然下垂的状态,因此,对于呈长方形的待蒸镀基板来说,掩膜版也呈长方形,待蒸镀基板在平 行于该待蒸镀基板的各方向上均保持张紧状态,而掩膜版在平行于该掩膜版 的各方向上均保持松弛状态时,后续对待蒸镀基板与掩膜版进行对位时,由 于待蒸镀基板的下垂方向以及下垂量均与掩膜版不同,因而通常需要多次进 行对位操作,造成蒸镀过程的效率降低,且由于待蒸镀基板的下垂方向以及 下垂量均与掩膜版不同,因而待蒸镀基板与掩膜版难以精确对准,造成对待 蒸镀基板进行蒸镀后的良率降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基板固定载具,用于提高蒸镀过程的效率, 并提高对待蒸镀基板进行蒸镀后的良率。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种基板固定载具,包括支撑框架和位于所述支撑框架上方的冷却板, 所述支撑框架中部具有中空区域,所述支撑框架对应于所述中空区域的内壁 上设置有支撑部;所述冷却板与所述支撑框架可相向移动,所述冷却板与所 述支撑框架相向移动时,所述冷却板落入所述中空区域内,且所述冷却板的 边缘与所述支撑部相对;
对待蒸镀基板蒸镀时,待蒸镀基板位于所述中空区域内,待蒸镀基板的 边缘位于所述支撑部上,待蒸镀基板呈长方形结构,所述冷却板对应于待蒸 镀基板的长边的边缘与对应的所述支撑部之间的间距大于或等于待蒸镀基板 的厚度,所述冷却板对应于待蒸镀基板的短边的边缘与对应的所述支撑部之 间的间距小于待蒸镀基板的厚度。
优选地,所述冷却板对应于待蒸镀基板的长边的边缘与对应的所述支撑 部之间的间距G1为:其中,DGlass为待蒸镀基板 的厚度;
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