[发明专利]一种镁合金制品高光处理方法

权利要求书

1.一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；

S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，得到高光镁合金；

S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面进行清洗、烘干，再放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；

S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。

2.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S2中CNC对镁合金素材工件切割全交边时，CNC刀具使用钻石高光刀，切割时转速为8～10万r/min。

3.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S3中清洗的具体操作为：先用18MΩ的去离子水对高光镁合金表面进行冲洗1～2次，然后将高光镁合金浸泡在乙醇溶液中，并于超声仪中超声10～20min，取出再用浸泡乙醇的鹿皮巾对高光镁合金表面进行擦洗，再转移至丙酮溶液中密封浸泡3～8min，在通风处中取出，并用18MΩ的去离子水再次冲洗1～2次，即完成清洗操作。

4.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S3中预热的温度为103～108℃，预热的时间为25～35min。

5.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S3中高光镁合金去氧化处理的具体操作为：先向镀膜机内通入惰性气体10～30min，再使用惰性气体对高光镁合金表面溅射5～10min，然后再恢复到通入惰性气体都的状态，所述步骤S3中单晶硅的去氧化处理的具体操作为：直接使用惰性气体对单晶硅表面溅射15～20min。

6.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S3中氧气的通入量为75～77sccm，所述惰性气体的通入量为150～154。

7.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述步骤S4中AF防指纹胶料由硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯复配而成，所述硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯的质量比为2～4：1～3：1。

8.根据权利要求1所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述镁合金素材工件的长度为0.1-2m，宽度为0.1-1m。

9.根据权利要求8所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述镁合金素材工件的长度为1m，宽度为0.5m。

10.根据权利要求8所述的一种镁合金制品高光处理方法，其特征在于，所述镁合金素材工件为矩形结构。