[发明专利]一种镁合金制品高光处理方法

说明书

本发明公开了一种镁合金制品高光处理方法，包括以下步骤S1、制备镁合金素材工件；S2、使用数控机床对镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工得到高光镁合金；S3、准备单晶硅，再将高光镁合金表面清洗、烘干，并在镀膜机中预热，再对高光氧化镁和单晶硅去氧化处理，然后将去氧化处理后的单晶硅溅射到去氧化处理后的高光镁合金表面，得镀氧化硅镁合金；S4、在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再烘干，冷却，清洗即得处理后的镁合金制品。本发明提出的处理方法，操作简单，有效避免高光镁合金表面氧化腐蚀的现象发生，处理后的镁合金仍保持高光泽的金属质感，且具有耐磨、防水、防油的功效，拓展镁合金在高端领域的运用。

技术领域

本发明涉及金属加工技术领域，尤其涉及一种镁合金制品高光处理方法。

背景技术

镁合金因密度小，比强度高，比弹性模量大，散热好，消震性好，承受冲击能力强等优势被广泛应用在航空、航天、运输、化工、电子等部门。但由于镁的化学活性强，在空气中易氧化，在高温条件下可以发生燃烧等原因，给镁合金的应用造成阻碍。而且为了提高镁合金的质感在镁合金表面进行高光处理，会加快镁合金氧化的速度，使镁合金表面极易氧化腐蚀，降低镁合金表面的光泽度，致使镁合金在高端产品上的应用严重受限。基于现有技术存在的不足，本发明提出一种镁合金制品高光处理方法。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种镁合金制品高光处理方法。

一种镁合金制品高光处理方法，包括以下步骤：

S1、素材成型：以镁合金为原料，根据镁合金的性质以及成品的形状、性能对镁合金进行压铸、冲压、锻造、熔模铸造、消失模铸造、数据机床加工板材中的单个或多个组合制备得到镁合金素材工件；

S2、切割高光边：使用数控机床对步骤S1中得到的镁合金素材工件进行切割高光全角边的加工，得到高光镁合金；

S3、镀氧化硅薄膜：准备单晶硅，备用，再将步骤S2得到的高光镁合金表面进行清洗、烘干，再放入镀膜机中，然后对镀膜机内的高光镁合金进行预热，再对高光氧化镁和单晶硅分别进行去氧化处理，然后以去氧化处理后的单晶硅为靶材对去氧化处理后的高光镁合金表面进行溅射，同时通入氧气，溅射结束即得镀氧化硅镁合金；

S4、涂覆指纹层：在镀氧化硅镁合金表面均匀喷涂AF防指纹胶料，再进行烘干，冷却至室温，超声波清洗，即得处理后的镁合金制品。

优选的，所述步骤S2中CNC对镁合金素材工件切割全交边时，CNC刀具使用钻石高光刀，切割时转速为8～10万r/min。

优选的，所述步骤S3中清洗的具体操作为：先用18MΩ的去离子水对高光镁合金表面进行冲洗1～2次，然后将高光镁合金浸泡在乙醇溶液中，并于超声仪中超声10～20min，取出再用浸泡乙醇的鹿皮巾对高光镁合金表面进行擦洗，再转移至丙酮溶液中密封浸泡3～8min，在通风处中取出，并用18MΩ的去离子水再次冲洗1～2次，即完成清洗操作。

优选的，所述步骤S3中预热的温度为103～108℃，预热的时间为25～35min。

优选的，所述步骤S3中高光镁合金去氧化处理的具体操作为：先向镀膜机内通入惰性气体10～30min，再使用惰性气体对高光镁合金表面溅射5～10min，然后再恢复到通入惰性气体都的状态，所述步骤S3中单晶硅的去氧化处理的具体操作为：直接使用惰性气体对单晶硅表面溅射15～20min。

优选的，所述步骤S3中氧气的通入量为75～77sccm，所述惰性气体的通入量为150～154。

优选的，所述步骤S4中AF防指纹胶料由硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯复配而成，所述硅烷偶联剂、全氟己基乙基丙烯酸酯和聚四氟乙烯的质量比为2～4：1～3：1。