[发明专利]薄膜太阳能电池在审
申请号: | 201810083952.2 | 申请日: | 2018-01-29 |
公开(公告)号: | CN108269868A | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 聂曼;杨立红 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0445 | 分类号: | H01L31/0445 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 周放;解立艳 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光吸收层 碱性元素 薄膜太阳能电池 碱金属元素 基板 载流子 电池开路电压 光电转换效率 透明导电层 表面复合 处理工艺 电子结构 离子交换 依次设置 缓冲层 层间 膜层 钼层 制备 电池 | ||
本发明公开了一种薄膜太阳能电池,其包括基板,基板上依次设置有钼层、第一碱性元素层、光吸收层、第二碱性元素层、缓冲层和透明导电层。本发明提供的薄膜太阳能电池,通过设置第二碱性元素层,使第二碱性元素层中的碱金属元素与光吸收层中的元素发生反应形成含有碱金属元素的膜层,从而改变了光吸收层表面的成分,并进一步通过离子交换改变光吸收层的电子结构,减少了层间载流子的表面复合,使后制备处理工艺增大了电池开路电压,进而提高了电池的光电转换效率。
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种薄膜太阳能电池。
背景技术
随着工业的快速发展,严峻的能源和环境问题日趋严重,太阳能利用成为各国研究的热点。其中,在太阳能电池技术领域,铜铟镓硒(CIGS)为直接带隙半导体,随着Ga元素的掺入,CIGS的带隙宽度可以在1.02eV与1.68eV之间进行调节。CIGS对可见光吸收系数高,是最有希望用于制作高效低成本薄膜太阳能电池的材料。
CIGS电池的玻璃基板含有碱性元素,CIGS与Mo层之间有蒸镀一层碱性化合物层,作为吸收层碱性元素的阻隔调节。但是在共蒸发制备吸收层过程中,工艺温度超过500度,碱性元素由高浓度处扩散到低浓度吸收层。吸收层制备完成后,在传输到下一段工艺前,基板温度降低,碱性元素又扩散回CIGS层底部,导致CIGS表面的碱性元素不可控,进而使整个工艺过程中碱性元素不可控,降低了CIGS电池的光电转换效率。
发明内容
本发明的目的是提供一种薄膜太阳能电池,以解决上述现有技术中的问题,提升对CIGS表面的碱性元素的可控性,提高电池的光电转换效率。
本发明提供了一种薄膜太阳能电池,其中,包括:
基板;
设置在所述基板上钼层;
设置在所述钼层上的第一碱性元素层;
设置在所述碱性元素层上的光吸收层;
设置在所述光吸收层上的第二碱性元素层;
设置在所述第二碱性元素层上的缓冲层;
设置在所述缓冲层上的透明导电层。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述基板为浮化玻璃。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述钼层的厚度为200~500nm,所述钼层的电阻为500~1000mΩ。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述光吸收层为铜铟镓硒吸收层,所述铜铟镓硒吸收层的厚度为1.8~2.5um。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述铜铟镓硒吸收层组成元素的原子比例满足:0.75≤Cu/(In+Ga)≤1,0.2≤Ga/(In+Ga)≤0.5。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述缓冲层为硫化镉层,所述硫化镉层的厚度为20~70nm。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述透明导电层的成分为掺铝氧化锌。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述透明导电层的厚度为800~1200nm,所述透明导电层的电阻为5~30Ω。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述第一碱性元素层为NaF、KF、RbF或CsF中的一种。
如上所述的薄膜太阳能电池,其中,优选的是,所述第二碱性元素层为NaF、KF、RbF或CsF中的一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京铂阳顶荣光伏科技有限公司,未经北京铂阳顶荣光伏科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810083952.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的