[发明专利]掩模组件的制造方法

说明书

本发明涉及能够提升图案精度的掩模组件的制造方法，该方法包括以下步骤：准备载体衬底；在载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；在载体衬底和第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在载体衬底上沉积金属层；去除布置在第一光致抗蚀剂图案和第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模，其中，第一光致抗蚀剂为正(positive)性光致抗蚀剂，而第二光致抗蚀剂为负(negative)性光致抗蚀剂。

技术领域

本发明涉及掩模组件的制造方法，尤其涉及能够提高沉积精度的掩模组件的制造方法。

背景技术

有机发光显示装置(organic light emitting diode display)是具有发射光的有机发光器件并显示图像的自发光型显示装置。不同于液晶显示装置(liquid crystaldisplay)，有机发光显示装置不需要额外的光源，因此具有相对小的厚度和重量。此外，有机发光显示装置因具有消耗电力低、亮度高以及反应速度快等高品质特性而作为便携式电子设备的下一代显示装置而备受瞩目。

有机发光显示装置通过使注入到阳极和阴极的空穴和电子在发光层中再结合来发射光，从而实现色彩，并且具有发光层插置于阳极与阴极之间的叠层型结构。然而，由于通过上述结构难以实现高效率发光，因此选择性地将电子注入层、电子传输层、空穴传输层和空穴注入层等中间层附加地插入到各个电极与发光层之间来使用。

另外，有机发光显示装置的电极以及包括发光层的中间层可通过各种方法来形成，而其中的一种方法为沉积法。为了使用沉积法制造有机发光显示装置，使用具有与待形成在衬底上的薄膜的图案相同的图案的精细金属掩模(Fine Metal Mask；FMM)。精细金属掩模(FMM)对齐到衬底上，并且在衬底上通过沉积构成薄膜的物质来图案化薄膜。

此时，为了制造高分辨率的显示器，正在进行着对于制造能够提高沉积精度的掩模组件的研究。

发明内容

本发明的目的在于提供能够提高沉积精度的掩模组件的制造方法。

用于实现如上所述的目的的、根据本发明的掩模组件制造方法包括以下步骤：准备载体衬底；在载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；在载体衬底和第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在载体衬底上沉积金属层；去除布置在第一光致抗蚀剂图案和第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模，其中，第一光致抗蚀剂为正(positive)性光致抗蚀剂，且第二光致抗蚀剂为负(negative)性光致抗蚀剂。

在对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案的步骤中，第一光致抗蚀剂图案的侧面可与载体衬底构成钝角。

在对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案的步骤中，第二光致抗蚀剂图案的侧面可与载体衬底构成锐角。

第一光致抗蚀剂图案的上表面的面积可小于第二光致抗蚀剂图案的上表面的面积。

第一光致抗蚀剂图案的下表面的面积可大于第一光致抗蚀剂图案的上表面的面积。

第二光致抗蚀剂图案的上表面的面积可大于第二光致抗蚀剂图案的下表面的面积。

分割掩模的厚度可以是50μm以下。

金属层可由26％以上且46％以下的镍(Ni)、10％以下的钴(Co)和44％以上且74％以下的铁(Fe)构成。

在载体衬底上沉积金属层的步骤中，布置在第二光致抗蚀剂图案上的金属层与直接接触载体衬底的金属层可分隔开。

将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模的步骤可包括以下步骤：对载体衬底照射激光。