[发明专利]一种液箱和液体循环装置在审

专利信息
申请号: 201810097819.2 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN110090471A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 刘伟;高玉英 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: B01D19/02 分类号: B01D19/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 出液腔 进液腔 隔离板 液体循环装置 液箱 种液 液体循环管路 手动排气 外界环境 吸入循环 箱体内部 液体泄漏 液体泄露 自动排气 排气管 泵体 分隔 排出 排气 溢出 连通 阻隔
【说明书】:

发明公开了一种液箱和液体循环装置。其中,液箱包括箱体、设置于所述箱体内的隔离板和连通所述箱体内部与外界环境的排气管;所述隔离板将所述箱体分隔成进液腔和出液腔,所述进液腔的底部与所述出液腔的底部相连通,所述进液腔的顶部与所述出液腔的顶部相连通;所述隔离板用于阻隔在所述进液腔产生的气泡流向所述出液腔,所述排气管用于排出溢出的所述气泡。本发明解决了手动排气无法完全避免气泡被泵体吸入循环管路,操作麻烦,且有液体泄漏风险的问题,本发明的液箱可实现自动排气,避免产生的气泡进入液体循环管路,降低液体泄露风险,结构简单且成本低。

技术领域

本发明实施例涉及液体循环系统技术领域,尤其涉及一种液箱和液体循环装置。

背景技术

液体循环系统或设备被广泛应用于各行各业中,如:暖通空调行业的风机盘管系统,半导体行业的光刻机环境分系统和刻蚀机外部辅助液体温控设备等。

在对设备运行环境要求高的设备中,液体循环系统是保证设备正常运行的重要保证。在半导体设备尤其是精度极高的光刻机中,液体循环系统需要持续可靠地提供光刻机正常工作的运行环境。

然而,在液体循环系统中空气气泡的产生会影响循环系统的正常工作。如产生的气泡会对液体泵造成损坏(气蚀),由循环液体回流产生的气泡进入泵体内部会加速泵的磨损,产生震动和噪声,降低泵的性能,长期下去会破坏过流部件。

因此,需要对产生的气泡进行及时处理,防止气泡被运行的泵体吸入循环管路。通常,会在循环系统中加入排气阀,通过定期手动排气。但由于循环管路在不间断地进行液体循环,因此气泡的产生也是连续的,定期手动排气无法完全避免气泡被泵体吸入循环管路。另外,由于建筑空间有限,留出维修维护区域很有限,出现气体进入循环管路问题时手动排气极不方便,而且需要开启泵罐泵放空,操作麻烦,且有泄漏风险。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的是提出一种液箱和液体循环装置,以自动排气,避免产生的气泡进入液体循环管路,且降低液体泄露风险。

为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一方面,本发明实施例提供了一种液箱,包括箱体、设置于箱体内的隔离板和连通箱体内部与外界环境的排气管;

隔离板将箱体分隔成进液腔和出液腔,进液腔的底部与出液腔的底部相连通,进液腔的顶部与出液腔的顶部相连通;

隔离板用于阻隔在进液腔产生的气泡流向出液腔,排气管用于排出溢出的气泡。

另一方面,本发明实施例还提供了一种液体循环装置,包括上述第一方面所述的液箱。

本发明的有益效果是:本发明提供的液箱和液体循环装置,通过在液箱的箱体内设置隔离板,使隔离板阻隔在进液腔产生的气泡流向出液腔。如在液体循环装置中液体循环管路的液体流回进液腔,或向进液腔注入液体时,进液腔的液体受到较大的扰动会产生气泡,而产生的流向出液腔的气泡会受到隔离板的阻隔,之后,该部分气泡将在进液腔的液体中上升并浮出液面,形成的气体通过排气管排出液箱,实现自动排气,降低人工排气时液体泄露风险,同时避免了气泡流至出液腔后进入液体循环管路,从而防止气泡损坏(气饰)液体泵(水泵),有效保护过流部件(泵体、泵盖、叶轮、密封环、泵轴和轴套等)。

附图说明

下面将通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例,使本领域的普通技术人员更清楚本发明的上述及其他特征和优点,附图中:

图1是本发明实施例提供的一种液箱的主视图;

图2是图1中液箱的侧视图;

图3是本发明实施例提供的另一种液箱的主视图;

图4是图1中另一种液箱的侧视图;

图5是图1中另一种液箱的侧视图;

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