[发明专利]一种褪除镁合金微弧氧化膜层的方法

权利要求书

1.种褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、将需要褪除微弧氧化层的镁合金工件置于酸蚀剂中浸泡，所述酸蚀剂的组成成分包括：20~40g/L的主酸，0.5~1.0g/L的表面活性剂，0.5~10g/L的络合剂、10~30g/L的润湿剂以及5~20g/L的镁合金还原剂A，所述的主酸为含氟酸或含氟酸盐或硫酸；

S2、将酸蚀剂浸泡后的镁合金工件置于清水中冲洗；

S3、将经过步骤S2水洗的镁合金工件置于碱溶液中进行中和反应，反应温度为10～40℃，使得镁合金工件表面呈中性或微碱性；

S4、将完成步骤S3的镁合金工件进行超声波水洗，水洗温度为15～40℃。

2.根据权利要求1所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述步骤S1中的含氟酸为氢氟酸，而含氟酸盐为氟化氢胺。

3.根据权利要求1所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述步骤S1中所述的络合剂为磷酸、磷酸盐、柠檬酸、柠檬酸盐、酒石酸、酒石酸盐以及丁二酸中的一种或多种混合物。

4.根据权利要求1所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述的润湿剂为丙二醇、丙三醇以及三乙醇胺中的一种或多种混合物。

5.根据权利要求1所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述的镁合金还原剂A为甲醛合次硫酸钠、草酸以及硫酸二氢钾中的一种或多种混合物。

6.根据权利要求1所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述步骤S3中碱溶液为EDTA与氢氧化钠和/或碳酸钠的混合溶液。

7.根据权利要求1所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述的超声波水洗时间为2～5min，超声波发生器功率为2～4KW，振动屁频率为50～80KHz。

8.根据权利要求1－7任一项所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述的步骤S3和步骤S4之间增加一道清水冲洗工序，所述的清水冲洗工序同步骤S2。

9.根据权利要求8所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，所述的清水为工业纯水，冲洗时间为30～60s。

10.根据权利要求8或9所述的褪除镁合金微弧氧化膜层的方法，其特征在于，还包括干燥步骤，镁合金工件完成步骤S4后直接进入干燥步骤，或完成步骤S4后再经多道清水冲洗工序后进入干燥步骤；所述的干燥步骤为依次进行的风淋吹洗工序和烘干工序。