[发明专利]一种荧光粉涂覆方法在审
| 申请号： | 201810106355.7 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN108417696A | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 霍文旭;孙婷;苏佳槟 | 申请（专利权）人： | 广州硅能照明有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/50 | 分类号： | H01L33/50;H01L33/56 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 罗晶;高淑怡 |
| 地址： | 510530 广东省广州市广州高*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 荧光粉 封装胶 磁性颗粒 包裹层 沉降 内核 涂覆 绝缘体 透明包裹层 透明磁性 电磁力 速率和 良率 施加 | ||
【权利要求书】：
1.一种荧光粉涂覆方法，其特征在于，向封装胶加入磁性颗粒，并向封装胶施加电磁力；所述磁性颗粒包括内核与包裹层，所述内核的直径为0.1nm-10μm，所述包裹层为透明包裹层，所述包裹层厚度为1μm-10μm，该磁性颗粒的分布浓度为封装胶重量的0.01％-10％。
2.如权利要求1所述的荧光粉涂覆方法，其特征在于，所述磁性颗粒通过掺入涂覆或喷洒的方式加入封装胶。
3.如权利要求1所述的荧光粉涂覆方法，其特征在于，所述包裹层的材质为硅树脂或二氧化硅。
4.如权利要求1所述的荧光粉涂覆方法，其特征在于，所述磁性颗粒的电阻率为10Ω·m以上。
5.如权利要求1所述的荧光粉涂覆方法，其特征在于，所述内核的厚度为10-500nm。
6.如权利要求1所述的荧光粉涂覆方法，其特征在于，所述内核的材质为铁、钴、镍或氧化铁。
7.如权利要求1所述的荧光粉涂覆方法，其特征在于，所述内核的材质为氧化铁，所述内核的直径为10nm-100nm，所述包裹层的材质为二氧化硅，所述包裹层的厚度为4-8μm，该磁性颗粒的分布浓度为封装胶重量的0.1-0.5％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州硅能照明有限公司，未经广州硅能照明有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810106355.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
