[发明专利]核糖核苷酸还原酶抑制剂

权利要求书

1.一种具有下式的化合物：

其中，

R是取代或未取代的芳基，

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆以及R₇独立地是氢、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的烷基；以及

R₈、R₉、R₁₀以及R₁₁独立地是羟基保护基，其中R₈和R₉任选地连接在一起形成取代或未取代的杂环烷基，并且R₁₀和R₁₁任选地连接在一起形成取代或未取代的杂环烷基。

2.如权利要求1所述的化合物，其中

R是未取代的芳基，以及

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆以及R₇独立地是氢、未取代的芳基或未取代的烷基。

3.如权利要求1或权利要求2所述的化合物，其中R₈、R₉、R₁₀以及R₁₁各自是甲基。

4.如权利要求1至3中任一项所述的化合物或其盐，所述化合物具有下式：

5.一种组合物，所述组合物包含如权利要求1至4中任一项所述的化合物或其盐和甲苯、二甲基甲酰胺或二氯甲烷。

6.一种组合物，所述组合物包含如权利要求1至4中任一项所述的化合物或其盐和羟基脱保护剂。

7.如权利要求6所述的组合物，其中所述羟基脱保护剂是三溴化硼、四丁基氟化铵、氢气/Pd/C、Zn/酸或氨。

8.一种合成具有下式的化合物的方法：

所述方法包括使羟基脱保护剂与具有下式的化合物接触：

其中，

R是取代或未取代的芳基，

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆以及R₇独立地是氢、取代或未取代的烷基、或取代或未取代的芳基；以及

R₈、R₉、R₁₀以及R₁₁独立地是取代或未取代的C₁-C₁₀烷基。

9.如权利要求8所述的方法，其中R₈、R₉、R₁₀以及R₁₁独立地是甲基。

10.如权利要求8或9所述的方法，其中所述羟基脱保护剂是三溴化硼、四丁基氟化铵、氢气/Pd/C、Zn/酸或氨。