[发明专利]光电流扫描系统

权利要求书

1.一种光电流扫描系统，该光电流扫描系统为一共轴系统，包括一激光发生装置、一聚焦装置、一位移调整装置、一偏压供给装置及一测量装置；所述激光发生装置用于发射激光，所述聚焦装置用于将激光聚焦到所述位移调整装置中待测样品表面；所述位移调整装置用于调整所述待测样品的位置，使激光照射到待测样品表面的不同部位；所述偏压供给装置用于向所述待测样品提供电压；所述测量装置用于测量流过所述待测样品的电流信号，该光电流扫描系统用于扫描尺寸为微米级的待测样品，该光电流扫描系统进一步包括一载体、一源极、一漏极和一栅极，该载体为一包覆二氧化硅层的硅基底，待测样品设置在该二氧化硅层上，该源极和漏极从所述待测样品上分别引出，该栅极设置在硅基板上。

2.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述聚焦装置包括一物镜，该物镜对激光光束聚焦，使照射到待测样品表面的激光光斑直径为1微米至2微米。

3.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述位移调整装置包括一载物台和一位移台，该位移台固定在所述载物台，所述待测样品设置于所述位移台。

4.如权利要求3所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述载物台用于对所述待测样品的位置进行粗调，所述位移台用于对所述待测样品的位置进行微调。

5.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述偏压供给装置和测量装置集成在同一个源表内，该源表用于向所述待测样品提供电压，同时测量所述待测样品的电流。

6.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述偏压供给装置为一源表，用于向所述待测样品提供偏压；所述测量装置包括一电流前置放大器和一锁相放大器，用于测量所述待测样品的电流。

7.如权利要求1所述的光电流扫描系统，其特征在于，进一步包括一保护装置，该保护装置包括一收纳盒和一屏蔽筒，所述位移调整装置固定在所述收纳盒内，所述收纳盒用于保护所述位移调整装置和屏蔽外界电磁干扰；所述屏蔽筒设置于所述收纳盒，用于屏蔽所述聚焦装置和收纳盒之间的电磁干扰。

8.如权利要求7所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述收纳盒包括一可拆卸上盖，该上盖具有一通孔；所述屏蔽筒包括一环形片和一套筒，所述环形片设置于所述收纳盒上盖，所述环形片具有一开孔，所述套筒设置于所述环形片。

9.如权利要求8所述的光电流扫描系统，其特征在于，所述套筒包括第一空心圆柱和第二空心圆柱，该第二空心圆柱的外径小于所述第一空心圆柱的外径，在所述套筒的外表面形成一凸台，所述第二空心圆柱的外径小于所述环形片的开孔直径，所述第一空心圆柱的外径大于所述环形片的开孔直径，所述第二空心圆柱位于所述环形片的开孔内。

10.一种采用权利要求1-9中任一项光电流扫描系统测量光电流的方法，包括以下步骤：

所述激光发生装置发射激光；

激光通过所述聚焦装置聚焦到待测样品表面；

所述偏压供给装置给所述待测样品提供电压；

所述位移调整装置调整所述待测样品移动，使激光照射到待测样品表面的不同位置；同时所述测量装置测量所述待测样品的电流信号。