[发明专利]一种非导磁平面抛光装置及抛光方法

权利要求书

1.一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：包括上抛光体、下抛光体、支撑装置以及测力计；上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置，测力计固定在铣床工作台上，支撑装置固定在测力计上，下抛光体安装在支撑装置上，上抛光体固定在铣床的转轴上；上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转，测力计测量法向力与扭矩，进而调整工件与磁极距离及转速。

2.根据权利要求1所述的一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：所述上抛光体包括上抛光基体、磁极、研磨粒；4个磁极按照顺时针N-S-N-S的排列方式圆周均布在抛光基体上，研磨粒用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极上，上抛光基体与铣床主轴连接，铣床主轴带动上抛光基体旋转。

3.根据权利要求1所述的一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：所述下抛光体包括下抛光基体、磁极、研磨粒、连接体；4个磁极按照顺时针S-N-S-N的排列方式圆周均布在抛光基体上，研磨粒用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极上，下抛光基体通过轴承安装在连接体上，连接体固定在支撑装置上，下抛光基体可绕自身轴线旋转。

4.根据权利要求1所述的一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：所述支撑装置包括U型支架、平板、支撑块；U型支架顶部设有与平板圆孔相应的圆柱销，用以固定平板；U型支架底部设有与测力计小圆柱销相应的小圆孔，用以固定在测力计上；U型支架上表面固定支撑块，支撑块设有与下抛光体的连接体安装孔相应的连接销，用以固定下抛光体的连接体。

5.根据权利要求4所述的一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：所述U型支架采用透明材质制作。

6.根据权利要求4所述的一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：所述平板采用耐磨导电性能好的金属材料制作。

7.根据权利要求1所述的一种非导磁平面抛光装置，其特征在于：所述测力计下表面固定在铣床工作台上，上表面通过小圆柱销固定在U型支架底部。

8.基于权利要求1所述的一种非导磁平面抛光装置的抛光方法，其特征在于：具体包括如下步骤：

(1)将非导磁工件装夹在平板上，研磨粒吸附在4个磁极上，上抛光基体的4个磁极按照顺时针N-S-N-S排列，下抛光基体磁极排布方式与上抛光基体互补；

(2)调整磁极与工件的距离，磁极距工件表面1-2mm；

(3)将测力计固定在铣床工作台上，上抛光体连接在铣床主轴上，调整好转速并启动铣床，上下抛光体通过磁耦合同步旋转；

(4)4对互补磁极的磁力将研磨粒子按照磁力线方向形成具有抛光作用的“磁力刷”，通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光；通过测力计测量抛光时“磁力刷”作用在工件上的法向力与扭矩。