[发明专利]一种非导磁平面抛光装置及抛光方法

说明书

本发明涉及非导磁面抛光技术领域，尤其涉及一种非导磁平面抛光装置。包括上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计；上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置，测力计固定在铣床工作台上，支撑装置固定在测力计上，下抛光体安装在支撑装置上，上抛光体固定在铣床的转轴上；上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转，测力计测量法向力与扭矩，进而调整工件与磁极距离及转速。本发明适用于非导磁平面，可对利用磁研磨法无法进行抛光的非导磁平面进行有效地处理；成本低、效率高；通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光，保证了工件的表面质量与平面度。

技术领域

本发明涉及非导磁面抛光技术领域，尤其涉及一种非导磁平面抛光装置。

背景技术

平面抛光是指将平面工件进行超精密加工，祛除工件表面的划痕，斑点，塌边现象，使工件表面光亮，平滑，成镜面效果，平面的抛光是工业中常见而重要的加工方法，平光抛光的好坏直接影响工件的表面质量、平整度以及工件性能。目前平面的抛光方法主要分为两种，一是利用铣床抛光，二是采用手工抛光。铣床抛光平面质量的好坏主要取决于铣刀的不同，且抛光成本很高，在很多领域得不到很广泛的应用；手工抛光虽然能大幅度降低成本，但抛光的平整度得不到保证。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供一种非导磁平面抛光装置。成本低，既能保证平面的表面质量与平面度，又可高效完成对非导磁平面的加工。

为了达到上述目的，本发明采用以下技术方案实现：

一种非导磁平面抛光装置，包括上抛光体、下抛光体、支撑装置和测力计；上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置，测力计固定在铣床工作台上，支撑装置固定在测力计上，下抛光体安装在支撑装置上，上抛光体固定在铣床的转轴上；上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转，测力计测量法向力与扭矩，进而调整工件与磁极距离及转速。

所述上抛光体包括上抛光基体、磁极、研磨粒；4个磁极按照顺时针N-S-N-S的排列方式圆周均布在抛光基体上，研磨粒用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极上，上抛光基体与铣床主轴连接，铣床主轴带动上抛光基体旋转。

所述下抛光体包括下抛光基体、磁极、研磨粒、连接体；4个磁极按照顺时针S-N-S-N的排列方式圆周均布在抛光基体上，研磨粒用研磨液均匀搅拌后吸附在磁极上，下抛光基体通过轴承安装在连接体上，连接体固定在支撑装置上，下抛光基体可绕自身轴线旋转。

所述支撑装置包括U型支架、平板、支撑块；U型支架顶部设有与平板圆孔相应的圆柱销，用以固定平板；U型支架底部设有与测力计小圆柱销相应的小圆孔，用以固定在测力计上；U型支架上表面固定支撑块，支撑块设有与下抛光体的连接体安装孔相应的连接销，用以固定下抛光体的连接体。

所述U型支架采用透明材质制作。

所述平板采用耐磨导电性能好的金属材料制作。

所述测力计下表面固定在铣床工作台上，上表面通过小圆柱销固定在U型支架底部。

一种非导磁平面的抛光方法，具体包括如下步骤：

(1)将非导磁工件装夹在平板上，研磨粒吸附在4个磁极上，上抛光基体的4个磁极按照顺时针N-S-N-S排列，下抛光基体磁极排布方式与上抛光基体互补；

(2)调整磁极与工件的距离，磁极距工件表面1-2mm；

(3)将测力计固定在铣床工作台上，上抛光体连接在铣床主轴上，调整好转速并启动铣床，上下抛光体通过磁耦合同步旋转；

(4)4对互补磁极的磁力将研磨粒子按照磁力线方向形成具有抛光作用的“磁力刷”，通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光；通过测力计测量抛光时“磁力刷”作用在工件上的法向力与扭矩。

与现有方法相比，本发明的有益效果是：