[发明专利]等离子体-质谱分析系统的工作方法在审

专利信息
申请号: 201810125979.3 申请日: 2018-02-08
公开(公告)号: CN108181374A 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 陈飞华;徐岳;缪恩强;俞晓峰 申请(专利权)人: 聚光科技(杭州)股份有限公司;杭州谱育科技发展有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 等离子体 炬管 质谱分析系统 炬焰 图像 点火 中心轴线重合 使用寿命 中心轴线 拍摄 矩管 成功率 输出 响应
【说明书】:

发明提供了一种等离子体‑质谱分析系统的工作方法,所述等离子体‑质谱分析系统的工作方法包括以下步骤:(A1)在炬管点火前,拍摄所述炬管和线圈的图像;根据所述图像去调整所述炬管和线圈的相对位置,使得所述炬管的中心轴线和所述线圈围成区域的中心轴线重合;(A2)在所述炬管点火后,拍摄炬焰和线圈的图像;根据炬焰和线圈的图像去调整所述炬焰的位置,使得等离子体‑质谱分析系统输出正常的响应值。本发明具有出谱图快、点火成功率高、矩管使用寿命长、等优点。

技术领域

本发明涉及质谱分析,特别涉及等离子体-质谱分析系统的工作方法。

背景技术

在ICP-MS分析时,炬管全部采用水平放置,采用取样锥深入等离子体中截取其中的离子进入质谱仪进行质量分析。因为等离子体功率很高,所以需要采用水冷的取样锥和大流量抽风的风冷系统对等离子体、取样锥散热,这样不仅需要很大流量的冷却气(氩气)对炬管进行保护,以免烧毁炬管,另外大流量的风冷系统不可避免的会吹动等离子体,导致等离子体内部的进样通道会受到风的影响产生扰动,导致分析结果产生不必要的波动。

另外深入到等离子体中的截取锥也受到等离子体高温的影响,随着加热时间的变化,导致ICP-MS采集到的离子数逐渐变化,反映在一起性能上就是信号逐渐偏移,稳定性不好。

同时因为水平放置炬管,受热力学的正常影响,炬管的上部空间自然是温度较高,下部空间温度较低,等离子体分布不均匀、温度分布也不均匀,容易导致炬管上部空间更容易烧毁。

发明内容

为了解决上述现有技术方案中的不足,本发明提供了等离子体-质谱分析系统的工作方法,实现了提高点火成功率、矩管使用寿命长、出谱图快、实时校正的目的。

等离子体-质谱分析系统的工作方法,所述工作方法包括以下步骤:

(A1)在炬管点火前,拍摄所述炬管和线圈的图像;

根据所述图像去调整所述炬管和线圈的相对位置,使得所述炬管的中心轴线和所述线圈围成区域的中心轴线重合;

(A2)在所述炬管点火后,拍摄炬焰和线圈的图像;

根据炬焰和线圈的图像去调整所述炬焰的位置,使得等离子体-质谱分析系统输出正常的响应值。

根据上述的等离子体-质谱分析系统的工作方法,优选地,在步骤(A1)中,同时进行泵排空、吹扫管路和关闭雾化工作。

根据上述的等离子体-质谱分析系统的工作方法,可选地,在步骤(A2)中,分析炬焰的形状,确定出炬焰的有效区域;在所述有效区域内,根据折中查找法得出炬焰和进样锥的锥孔的最优位置。

根据上述的等离子体-质谱分析系统的工作方法,优选地,利用炬焰与线圈的相对位置,得出炬焰的有效区域。

根据上述的等离子体-质谱分析系统的工作方法,优选地,所述炬焰的有效区域为:

X∈[X1,X2]:d1-4<X1<X2<4+d2

Y∈[Y1,Y2]:d3-4<Y1<Y2<4+d4

d1是炬焰的最左边到左侧线圈的距离,d2是炬焰的最右边到右侧线圈的距离,d3是炬焰的最上边到上线圈的距离,d4是炬焰的最下边到下侧线圈的距离。

根据上述的等离子体-质谱分析系统的工作方法,优选地,在步骤(A1)中,位置的调整方式为:

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