[发明专利]摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板

权利要求书

1.一种摩擦配向的方法，其特征在于，包括：

将基板置于台板机构上；所述台板机构包括台板本体和多个台板单元，每个所述台板单元相对于所述台板本体运动；

通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，得到所述摩擦辊位于所述基板的当前位置的压入量数值；其中，所述压入量数值的数目为多个，多个所述压入量数值一一对应于所述摩擦辊位于所述基板上的多个不同位置；

分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；以及

根据所述控制信号调节所述摩擦辊所在的所述基板位置对应的所述台板单元的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。

2.根据权利要求1所述的摩擦配向的方法，其特征在于，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤具体为：通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量。

3.根据权利要求2所述的摩擦配向的方法，其特征在于，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤，还包括：同时通过离子发生器发出正负离子团，所述正负离子团用于中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子。

4.根据权利要求2或3所述的摩擦配向的方法，其特征在于，在通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团之前，以及在将基板置于台板机构上之后，还包括步骤：于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪。

5.根据权利要求1所述的摩擦配向的方法，其特征在于，所述压入量平均值为0.2mm-0.6mm。

6.一种摩擦配向的装置，其特征在于，所述装置包括台板机构、多个调节机构、摩擦辊、支撑架、压力传感器以及测距仪；所述台板机构包括台板本体和多个台板单元，每个所述台板单元相对于所述台板本体运动，所述台板机构用于承载并传送基板，使所述基板相对于所述摩擦辊运动，多个所述调节机构与多个所述台板单元一一对应连接，所述调节机构用于调节所述台板单元的高度，以调节所述摩擦辊的压入量，所述摩擦辊转动连接于所述支撑架上，所述摩擦辊用于摩擦所述基板，每个所述台板单元上设有所述压力传感器，所述压力传感器用于感应所述摩擦辊所在的所述基板位置相应的所述台板单元的位置并输出感应信号，所述测距仪设于所述支撑架上，且所述测距仪位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述测距仪用于检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量并输出控制信号，所述测距仪与所述调节机构通信连接，所述调节机构根据所述感应信号及所述控制信号调节所述摩擦辊所在的所述基板位置对应的所述台板单元的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。

7.根据权利要求6所述的摩擦配向的装置，其特征在于，所述装置还包括缓冲机构，所述支撑架连接于所述缓冲机构上，所述缓冲机构用于调节所述支撑架的高度。

8.根据权利要求6所述的摩擦配向的装置，其特征在于，所述装置还包括离子发生器，所述离子发生器设置于所述支撑架上，且所述离子发生器位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述离子发生器用于发出正负离子团，以中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子。

9.一种基板，其特征在于，采用权利要求6至8中任一项所述的摩擦配向的装置进行摩擦配向加工。

10.一种液晶显示器件，其特征在于，所述液晶显示器件包括权利要求9所述的基板。