[发明专利]一种悬液流体去毛刺抛光机

说明书

本发明公开了一种悬液流体去毛刺抛光机，包括钢机架、工作台、悬液台、清洁台、人机界面、研磨装置、清洗装置、超声波工位、气压清洁位、研磨工位、清洗工位；所述钢机架为带有底板的一体式矩形体，所述钢机架前部设有工作台，工作台上设有研磨工位A、研磨工位B和清洗工位；所述钢机架左侧设有清洁台，所述清洁台上设有超声波工位和气压清洁位；所述钢机架后部设有悬液台，所述悬液台上设有两组双联双动式的工作缸，所述悬液台与工作台之间设有两套并联配置的研磨装置，所述清洗工位后部设有清洗装置；本发明全方位解决去毛刺需要的连续不间断、自循环喷射悬浮磨液的问题，无悬浮磨液型腔残留物；减少成本，加工精度高，提高抛光效率。

技术领域

本发明涉及流体抛光技术设备领域，特别涉及一种悬液流体去毛刺抛光机。

背景技术

精密模具复杂型腔的沟槽、异形曲面以及清角部位的精整加工，仍然是以手工研磨抛光为主，不能同时进行强化处理，导致加工能力差、生产效率低下、生产成本高，难以保证加工质量。液流悬浮超精密加工技术是通过圆柱体抛光头在加工液中的高速旋转，借助流体动压力，将加工液中的游离磨粒源源不断地射向工件表面，此时通过游离磨粒的滑动、滚动和冲击作用切除极薄的材料层，降低表面粗糙度，获得比传统加工方法更高的加工精度和表面质量。

现有技术中，圆柱体抛光头与工件的间隙保持恒定的微米级是实现纳米抛光的基本条件，因此抛光工具配模方法的选择显得尤为重要；传统的配模利用模具型腔浇灌成型，制作出装配在连接电机头的加工杆上的圆柱体抛光头，其存在以下缺点：1.配模后圆柱体抛光头的圆柱度精度低，径向圆跳动大，圆柱体抛光头与工件的间隙根本无法达到微米级，使加工中的圆柱体抛光头与工件接触；2.圆柱体抛光头的中心孔在配模过程中无法保证与传动轴平行，使得圆柱体抛光头在高速旋转过程中与传动轴呈微小角度，影响抛光的均匀性；3.圆柱体抛光头表面的粗糙度取决于传统配模过程中模具的内表面的粗糙度，而圆柱体抛光头外表面的粗糙度对抛光液中液体动压力有一定影响，这也最终导致加工时间过长，加工质量下降，成本上升；

传统悬浮液体抛光去毛刺机的结构单一，功能和实用性能差，去毛刺工作一个循环后，需要停顿进入下一个工作循环，再重新喷射磨液；等待周期长，同时无法满足工件去毛刺后的内腔残留和清洗问题，导致解决一种工艺(去毛刺)问题的同时，滋生出其它次生问题，如：二次污染工件和内腔残留磨液颗粒。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种悬液流体去毛刺抛光机，针对现有技术中的不足，采用双联双动、双缸连续抛光液压站，配置两个研磨工位、一个清洗工位、一个超声波工位和一个气压清洁位；全方位解决去毛刺需要的连续不间断、自循环喷射悬浮磨液的问题，解决悬浮磨液进入工件型腔后残留在工件型腔的残留物清洗问题；加工简单、效率高、液流悬浮超精密抛光效果好。

为达到上述目的，本发明的技术方案如下：一种悬液流体去毛刺抛光机，包括钢机架、底板、工作台、上梁架、悬液台、清洁台、液压站、储气包、配电柜、散热风扇、人机界面、操控按钮、安全光栅、自动移门、照明灯、维修门、研磨装置、清洗装置、超声波工位、气压清洁位、研磨工位A、研磨工位B、清洗工位，其特征在于：

所述钢机架为带有底板和外罩的全框架钣金一体式矩形结构，所述钢机架的前部中间上下方向水平式固定设置有工作台和上梁架，所述工作台上并排设置有研磨工位A、研磨工位B和清洗工位，所述上梁架上分别配置有三个升降气压缸；所述钢机架的左侧中间固定设置有清洁台，所述清洁台上设置有超声波工位和气压清洁位；所述钢机架的后部固定设置有悬液台，所述悬液台上固定设置有两组双联双动式的工作缸，所述悬液台与工作台之间的底板上设置有两套并联配置的研磨装置，所述清洗工位后部的底板上设置有清洗装置；所述钢机架后部两个角落处分别设置有液压站和储气包；所述钢机架的右侧面上部设置有配电柜、下部设置有散热风扇；所述钢机架的外罩前面右上角处设置有人机界面和操控按钮，所述工作台下方配置有维修门、上方配置有照明灯，所述工作台两侧装配有安全光栅和自动移门。