[发明专利]位移测量装置、测量系统及位移测量方法有效
申请号: | 201810151188.8 | 申请日: | 2018-02-13 |
公开(公告)号: | CN109557545B | 公开(公告)日: | 2023-07-07 |
发明(设计)人: | 近藤智则;铃木祐太;的场贤一;金谷义宏 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | G01S17/08 | 分类号: | G01S17/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马爽;臧建明 |
地址: | 日本京都府京都市下京区*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 位移 测量 装置 系统 测量方法 | ||
本发明获得一种能够精度良好地测量到测量对象面的距离的位移测量装置、测量系统及位移测量方法。本发明的位移测量装置包括:投光部,产生光;传感器头,对测量对象物照射光,且接收所照射的光中在测量对象物的测量对象面反射的光;以及控制部,基于传感器头所接收的光,算出表示与测量对象面之间的距离的值。控制部是以所算出的值包含在预先设定的数值范围内为条件,将所算出的值作为表示到测量对象面的距离的值进行处理,且基于所算出的值,重新设定数值范围。
技术领域
本发明涉及一种位移测量装置、包括位移测量装置的系统及位移测量方法。
背景技术
以往,例如,已知有如专利文献1所示使用白光共聚焦方式(whiteconfocalmethod)作为测量方式的位移测量装置。该位移测量装置是一边使非接触型传感器头移动,一边连续地测量与测量对象物之间的距离(位移)。
此外,存在一种工件,通过基于来自多个位置的反射光测量构件的厚度或位移,而进行品质管理。作为这种工件,例如,可列举包含不易反射光的原材料的工件(被实施了抗反射(AntiReflective,AR)涂布等抗反射加工的光学零件等)、形成为多层构成的工件(透镜组群等)。
此外,以往,已知有如专利文献2所示使用三角测距方式作为测量方式的位移测量装置。
[背景技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2012-208102号公报
[专利文献2]日本专利特开2013-90045号公报
发明内容
[发明欲解决的课题]
在如上所述的工件中,并不一定能够稳定地从所有测量位置获得反射光。例如,当如以图22的波形911所示,在第一个测量对象面上反射的光的受光量较小而成为面检测阈值以下时,位移测量装置将以波形912所示的在第二个测量对象面反射的光作为在第一测量对象面反射的光进行处理。具体来说,位移测量装置将到第一个测量对象面的距离作为距离L912而非距离L911进行处理。
此外,当存在来自多个位置的反射光时,工件的微小的位置偏差会导致测量对象面向测量范围外偏离。例如,如果像图23所示那样第一个测量对象面偏离测量范围,那么位移测量装置将以波形922所示的在第二个测量对象面反射的光作为在第一个测量对象面反射的光进行处理。具体来说,位移测量装置将到第一个测量对象面的距离作为距离L922进行处理。
此外,在使传感器头与工件的相对位置逐次偏移而反复进行所述测量时,有波形912、922等的位置沿图22、图23的横轴方向发生变动的情况。
因此,关于如上所述的工件,可能产生无法准确地测量到各测量对象面的距离的情况。因此,要求准确地测量到包含这种工件在内的各种工件的测量对象面的距离。
本发明鉴于所述问题而完成,目的在于提供一种能够精度良好地测量到测量对象面的距离的位移测量装置、系统及位移测量方法。
[解决课题的手段]
根据本发明的一实施方式,位移测量装置包括:投光部,产生光;传感器头,对测量对象物照射光,且接收所照射的光中在测量对象物的测量对象面反射的光;以及控制部,基于传感器头所接收的光,算出表示与测量对象面之间的距离的值。控制部以所算出的值包含在预先设定的数值范围内为条件,将所算出的值作为表示到测量对象面的距离的值进行处理,且基于所算出的值,重新设定数值范围。
根据本发明的一实施方式,测量系统包括上述位移测量装置和能够与位移测量装置进行通信的信息处理装置。信息处理装置将由位移测量装置的受光部接收到的光的受光量与距传感器头的距离建立关联地以图表显示,且将图表显示中的预先设定的数值范围的显示方式从内定的方式变更为预先设定的方式。
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