[发明专利]一种低反射率单晶硅片的制绒方法有效

专利信息
申请号: 201810158233.2 申请日: 2018-02-25
公开(公告)号: CN108360071B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 蔡国华 申请(专利权)人: 温岭汉德高分子科技有限公司
主分类号: C30B33/10 分类号: C30B33/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 317523 浙江省台*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 反射率 单晶硅 方法
【说明书】:

本发明涉及单晶硅片制备领域,公开了一种低反射率单晶硅片的制绒方法,包括:1)将壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇溶解到水中,混合均匀;2)将制绒添加剂加到碱溶液中,混合均匀;3)将单晶硅片置入制绒液中进行制绒。本发明采用壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇等作为制绒添加剂原料,组分绿色环保,制绒时间短,制绒后所获得的单晶硅片上四面方锥体均匀,硅片反射率低。

技术领域

本发明涉及单晶硅片制备领域,尤其涉及一种低反射率单晶硅片的制绒方法。

背景技术

利用单晶硅片的各个晶面如(110)面和(111)面在碱溶液中的腐蚀速率不同,在硅片表面形成无数的四面方锥体的过程,常被称作制绒,又称“表面织构化”。所形成的类似“金字塔”结构的四面方锥体能有效降低硅片对光的反射率。用于太阳能电池片的单晶硅片对光的反射越低,硅片对光的吸收越多,太阳能电池的能量转换效率也越高。

但单晶硅片在碱溶液中会快速生成大量的氢气,所形成的气泡粘附在硅片表面,阻隔反应进行,无法形成绒面,更严重的是会产生“漂片”的后果。与之相反,如果持续脱泡,硅片过度反应,则会使得表面产生“抛光”,反射率极高,失去应用价值。因此,制绒过程中需要添加绒面优化剂,既能帮助气泡的脱除,保证反应稳定进行,又要随反应进行吸附到单晶硅片表面,逐渐抑制反应进行,保持住优化的绒面结构。

早期工业上多使用基于氢氧化钠与异丙醇的组合物进行制绒。但作为有机小分子的异丙醇易挥发,使用寿命短,且其大量使用,使得废液的COD值高,引起环境问题。同时,异丙醇对于绒面的优化效果一般,使得制绒后的单晶硅片的反射率相对较高。因此筛选并使用天然绿色来源的助剂来实现单晶硅片的制绒具有较大的意义。

专利CN 106087068A公开了一种壳聚糖-氨基磺酸单晶硅太阳能电池片表面织构液,该表面织构液中含有壳聚糖。但是据大量公开文献报道以及本申请人的试验,由于壳聚糖的分子量结构呈刚性,其分子间存在强氢键作用,壳聚糖只能溶解于微酸性水溶液中,在中性及碱性环境中都会析出。而制绒过程是在强碱性环境中进行,因此,壳聚糖无法直接在单晶硅片制绒过程中使用或者说实际效果并不好。

发明内容

为了解决现有技术中所存在的至少一个技术问题,本发明提供了一种低反射率单晶硅片的制绒方法,本发明采用壳聚糖-聚2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、苯氧乙醇等作为制绒添加剂原料。其所用组分绿色环保,在进行制绒时,该制绒添加剂剂可在不影响其脱泡效果的前提下显著提高其在硅片表面的沉积能力,维持优化绒面金字塔结构,使得制绒后所获得的单晶硅片上四面方锥体均匀,硅片反射率低,制绒时间短。

本发明的具体技术方案为:一种低反射率单晶硅片的制绒方法,包括以下步骤:

1)制绒添加剂的配制:依次将壳聚糖-聚2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、苯氧乙醇溶解到水中,混合均匀。

2)制绒液的配制:将步骤1)制得的制绒添加剂加到碱溶液中,混合均匀。

3)将单晶硅片置入步骤2)制得的制绒液中进行制绒。

由于壳聚糖的分子量结构呈刚性,其分子间存在强氢键作用,因此常规壳聚糖只能溶解于微酸性水溶液中,在中性及碱性环境中都会析出。而制绒过程是在强碱性环境中进行,因此,壳聚糖无法直接在单晶硅片制绒过程中使用或者说实际效果并不好。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于温岭汉德高分子科技有限公司,未经温岭汉德高分子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810158233.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top