[发明专利]一种旋转式硅片清洗辅助装置

权利要求书

1.一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，该装置包括底部框架(1)、滚轴(2)和齿轮驱动机构，所述底部框架(1)上设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔和第二通孔相对设置形成一组对穿孔，所述滚轴(2)的两端分别穿设于第一通孔和第二通孔内，所述滚轴(2)的左端设有驱动齿轮(3)，所述齿轮驱动机构包括伺服电机(4)、第一伞状齿轮(5)、第二伞状齿轮(6)和主齿轮，所述伺服电机(4)的输出端和第一伞状齿轮(5)通过传动轴(7)传动连接，所述第一伞状齿轮(5)和第二伞状齿轮(6)相啮合，所述第二伞状齿轮(6)和主齿轮通过连接轴传动连接，所述主齿轮与驱动齿轮(3)相啮合。

2.根据权利要求1所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，该装置还包括支撑架(8)，所述支撑架(8)与底部框架(1)的左端连接，所述支撑架(8)与底部框架(1)相垂直，所述伺服电机(4)安装在支撑架(8)的顶部。

3.根据权利要求2所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述支撑架(8)的右侧下端设有定位轴套(9)，所述传动轴(7)的下端穿过定位轴套(9)与第一伞状齿轮(5)连接。

4.根据权利要求2所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述支撑架(8)的顶部设有安装平台(10)，所述安装平台(10)的上表面上设有电机安装架(11)，所述电机安装架(11)内安装有光电传感器，所述传动轴(7)的上端固定连接有传感器档片(12)，所述传感器档片(12)的四周均布有多个凸齿，所述光电传感器与传感器档片(12)相配合用于对传动轴(7)的转数进行计数。

5.根据权利要求4所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述安装平台(10)的顶部设有电机防护罩，所述伺服电机(4)、计数板、传感器和电机安装架(11)均设在在电机防护罩内。

6.根据权利要求1所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述第一通孔和第二通孔均有两个，所述两个第一通孔和两个第二通孔一一对应形成两组对穿孔，所述滚轴(2)有两个，所述每个滚轴(2)对应一组对穿孔，所述两个滚轴(2)的左端均设有驱动齿轮(3)，所述两个驱动齿轮(3)均与主齿轮啮合。

7.根据权利要求1或6所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述第一通孔和第二通孔分别设有第一轴承和第二轴承，所述滚轴(2)的两端与底部框架(1)分别通过第一轴承和第二轴承连接。

8.根据权利要求7所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述传动轴(7)、滚轴(2)、第一轴承和第二轴承均为PEEK材质。

9.根据权利要求1所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述底部框架(1)上设有一组以上花篮定位件(13)，所述每组花篮定位件(13)包括四个花篮定位件(13)，且属于同一组花篮定位件(13)的四个花篮定位件(13)分布在同一个矩形的四个顶点上。

10.根据权利要求1所述的一种旋转式硅片清洗辅助装置，其特征在于，所述支撑架(8)的左侧上端设有固定板(14)，所述固定板(14)与支撑架(8)通过螺栓连接。