[发明专利]一种硅片清洗干燥一体化装置及其清洗方法

权利要求书

1.一种硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，该装置包括可移动框架（1），在所述可移动框架（1）中设有控制柜（2）、气缸（3）、升降装置（4）、自动盖板（5）和清洗槽（6），所述升降装置（4）设置在箱体（7）中，在箱体（7）的一侧设有用于放置硅片承载花篮的支架，

所述升降装置（4）包括驱动电机（403）、丝杆（404）、连接杆（405）、连接套筒（406），所述驱动电机（403）设置在箱体（7）的底端面上，所述驱动电机（403）通过齿轮驱动丝杆（404）旋转，在所述丝杆（404）的下部设有限位槽（407），在所述限位槽（407）中设有与限位槽（407）相匹配的限位块（408），在所述丝杆（404）上设有螺母（409），所述螺母（409）的内螺纹与丝杆（404）之间螺纹连接，所述螺母（409）位于限位槽（407）的上方，所述螺母（409）与连接套筒（406）固定连接，所述连接杆（405）设置在连接套筒（406）内部，所述连接杆（405）与连接套筒（406）之间固定连接，在所述连接套筒（406）上设有延伸板（410），在所述延伸板（410）上设有滑块固定孔（411），在延伸板（410）上通过滑块固定孔（411）固定有滑块（412），所述滑块（412）与设置在箱体（7）内部的滑轨（402）相匹配；所述连接杆（405）的上端伸出箱体（7）的上端部与调整架（413）的一端相连，所述调整架（413）通过连接板（414）固定在连接杆（405）的顶端，所述调整架（413）的另一端设有连接轴（415），所述硅片承载花篮的支架包括连接板（416）和承载底板（417），在所述连接板（416）的背面设有固定套筒（418），固定套筒（418）套设并固定在连接轴（415）上，所述承载底板（417）上设有漏水孔（419）和凹槽，所述承载底板（417）上放置有硅片承载花篮（420），在所述硅片承载花篮（420）底部设有凸块，所述凸块和凹槽相互配合将硅片承载花篮（420）嵌设在承载底板（417）上；

所述自动盖板（5）的下端设有支撑杆（501），所述支撑杆（501）与设置在可移动框架（1）上的底座（502）铰接，支撑杆（501）的另一端与气缸（3）的伸缩杆（301）之间活动连接，所述自动盖板（5）设置在清洗槽（6）的上方，所述自动盖板（5）上设有喷孔（504）；

所述清洗槽（6）包括内槽体（601）和外槽体（602），在所述内槽体（601）的底部设有清洗液进液口（603）和内槽排放口（604），在所述内槽排放口（604）设有废液排放管（605），在所述废液排放管（605）上通过三通接头连接有排风管（606）和内槽外排管，所述排风管（606）和内槽外排管上均设有控制阀，在所述外槽体（602）的底部设有外槽排放口（607）。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述限位槽（407）为环形限位槽、梯形限位槽或V型限位槽。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述箱体（7）的上端面和连接杆（405）的接触面之间设有密封环（421）。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述箱体（7）的上端面上设有正压保护进气口（422）。

5.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述滑轨（402）的上端和下端均设有位置传感器（423）。

6.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述箱体（7）的侧壁上设有连接架（424），通过连接架（424）将箱体（7）固定在外槽体（602）的外侧。

7.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述承载底板（417）上设有用于放置硅片承载花篮（420）的倾斜底座（425），所述倾斜底座（425）的倾斜度不大于10°。

8.根据权利要求1所述的硅片清洗干燥一体化装置，其特征在于，所述固定套筒（418）和连接板（416）之间设有加强肋板（427）。