[发明专利]一种硅片承载机构在审

专利信息
申请号: 201810159865.0 申请日: 2018-02-26
公开(公告)号: CN108183082A 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 葛林五;陈景韶;葛林新;李杰;丁高生 申请(专利权)人: 上海提牛机电设备有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673
代理公司: 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 代理人: 周涛
地址: 201405 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 硅片卡槽 硅片承载 承载机构 硅片清洗 距离相等 硅片 底座 硅片承载花篮 对称设置 上表面 圆心角 相等 承载
【权利要求书】:

1.一种硅片承载机构,其特征在于,该承载机构包括底座(1)、第一硅片承载架(2)和第二硅片承载架(3),所述第一硅片承载架(2)和第二硅片承载架(3)对称设置在底座(1)的上表面上,所述第一硅片承载架(2)的顶部设有多道第一硅片卡槽(4),相邻的两个第一硅片卡槽(4)之间的距离相等,所述第二硅片承载架(3)的顶部设有多道第二硅片卡槽(5),相邻的两个第二硅片卡槽(5)之间的距离相等,所述第一硅片卡槽(4)和第二硅片卡槽(5)一一对应,所述第一硅片卡槽(4)的槽底和第二硅片卡槽(5)的槽底均处于同一弧面上,所述第一硅片卡槽(4)的槽底和第二硅片卡槽(5)的槽底所处弧面的半径与该承载机构所承载的硅片(10)的半径相等,所述第一硅片卡槽(4)和第二硅片卡槽(5)之间的圆心角α小于180°。

2.根据权利要求1所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述底座(1)的上表面上设有第一定位槽和第二定位槽,所述第一定位槽和第二定位槽相平行,所述第一硅片承载架(2)的下表面设有与第一定位槽相匹配的第一定位凸条,所述第一定位凸条伸入至第一定位槽内,所述第二硅片承载架(3)的下表面设有与第二定位槽相匹配的第二定位凸条,所述第二定位凸条伸入至第二定位槽内。

3.根据权利要求1所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述第一硅片卡槽(4)和第二硅片卡槽(5)均有25或26个。

4.根据权利要求1所述的一种硅片承载机构,其特征在于,该承载机构还包括第三硅片承载架(6),所述第三硅片承载架(6)设在底座(1)的上表面上,所述第三硅片承载架(6)设在第一硅片承载架(2)和第二硅片承载架(3)之间,所述第三硅片承载架(6)与第一硅片承载架(2)相平行,所述第三硅片承载架(6)的顶部设有多道第三硅片卡槽(7),所述第三硅片卡槽(7)与第一硅片卡槽(4)一一对应。

5.根据权利要求4所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述第三硅片卡槽(7)的槽底均处于同一平面上,且所述第三硅片卡槽(7)的槽底所在的平面与第一硅片卡槽(4)的槽底所在的弧面相切。

6.根据权利要求4所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述第三硅片卡槽(7)的槽底均处于同一弧面上,且所述第三硅片卡槽(7)的槽底所在的弧面与第一硅片卡槽(4)的槽底所在的弧面重合。

7.根据权利要求4所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述底座(1)的上表面上设有第三定位槽,所述第三定位槽与第一定位槽相平行,所述第三硅片承载架(6)的下端伸入至第三定位槽内。

8.根据权利要求4所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述第一硅片承载架(2)、第二硅片承载架(3)和第三硅片承载架(6)均与底座(1)通过螺栓连接。

9.根据权利要求4所述的一种硅片承载机构,其特征在于,第一硅片承载架(2)、第二硅片承载架(3)、第三硅片承载架(6)和底座(1)均为U-PVC材质或PEEK材质。

10.根据权利要求1所述的一种硅片承载机构,其特征在于,所述底座(1)上设有多个安装孔(8)。

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