[发明专利]波导元件、发光装置以及波导元件的制造方法在审
申请号: | 201810160351.7 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN108873162A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 彦坂年辉 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体区域 波导元件 发光装置 氮化物半导体 制造 方向交叉 延伸 | ||
1.一种波导元件,具备:
第1晶体区域,在第1方向上延伸,包括第1氮化物半导体;以及
第2晶体区域,在所述第1方向上延伸,包括第2氮化物半导体,并且与所述第1晶体区域连续,
从所述第1晶体区域向所述第2晶体区域的第2方向与所述第1方向交叉,
所述第1晶体区域的<0001>方向是从所述第1晶体区域向所述第2晶体区域,
所述第2晶体区域的<0001>方向是从所述第2晶体区域向所述第1晶体区域。
2.根据权利要求1所述的波导元件,其中,
所述第1晶体区域包括第1部分和第2部分,
所述第2部分位于所述第1部分与所述第2晶体区域之间,
所述第2部分的位错密度低于所述第1部分的位错密度,
所述第2晶体区域包括第3部分和第4部分,
所述第4部分位于所述第3部分与所述第1晶体区域之间,
所述第4部分的位错密度低于所述第3部分的位错密度。
3.根据权利要求1所述的波导元件,其中,
所述第1晶体区域中包括的第1元素的第1浓度超过所述第2晶体区域中包括的所述第1元素的第2浓度的0.01倍且低于100倍,
所述第1元素是从包括氧、碳以及硅的群选择出的1种元素。
4.根据权利要求1所述的波导元件,其中,
还具备包括第1部分区域、第2部分区域、第3部分区域以及第4部分区域的第1层,
在所述第2方向上,所述第1晶体区域的至少一部分位于所述第1部分区域与所述第2部分区域之间,
在所述第2方向上,所述第2晶体区域的至少一部分位于所述第1晶体区域的所述至少一部分与所述第2部分区域之间,
从所述第3部分区域向所述第1晶体区域的方向沿着与包括所述第1方向以及所述第2方向的平面交叉的第3方向,
从所述第4部分区域向所述第2晶体区域的方向沿着所述第3方向。
5.根据权利要求4所述的波导元件,其中,
还具备包括第5部分区域、第6部分区域、第7部分区域以及第8部分区域的第2层,
所述第2层的折射率低于所述第1晶体区域的折射率,且低于所述第2晶体区域的折射率,
在所述第2方向上,所述第1晶体区域的另一部分位于所述第5部分区域与所述第6部分区域之间,
在所述第2方向上,所述第2晶体区域的另一部分位于所述第1晶体区域的所述另一部分与所述第6部分区域之间,
从所述第1晶体区域向所述第7部分区域的方向沿着所述第3方向,
从所述第2晶体区域向所述第8部分区域的方向沿着所述第3方向。
6.根据权利要求1所述的波导元件,其中,还具备:
第3晶体区域,在所述第1方向上延伸,包括第3氮化物半导体;以及
第4晶体区域,在所述第1方向上延伸,包括第4氮化物半导体,并且与所述第3晶体区域连续,
在所述第2方向上,所述第2晶体区域位于所述第1晶体区域与所述第4晶体区域之间,
在所述第2方向上,所述第3晶体区域位于所述第2晶体区域与所述第4晶体区域之间,
所述第3晶体区域的<0001>方向是从所述第3晶体区域向所述第4晶体区域,
所述第4晶体区域的<0001>方向是从所述第4晶体区域向所述第3晶体区域。
7.一种发光装置,具备:
权利要求1所述的波导元件;以及
光源部,射出第1波长的第1光,
所述第1晶体区域包括第1端部和第2端部,从所述第1端部向所述第2端部的方向沿着所述第1方向,
所述第2晶体区域包括第3端部和第4端部,从所述第3端部向所述第4端部的方向沿着所述第1方向,
所述第1光入射到所述第1端部以及所述第3端部,
从所述第2端部以及所述第4端部射出的第2光的第2波长与所述第1波长不同。
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