[发明专利]基板处理装置及基板保持装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，用于处理基板，其中，

所述基板处理装置具有：

基板保持部，从基板的下侧将基板保持为水平状态；

吸引部，吸引在所述基板保持部与所述基板之间存在的气体，从而使所述基板吸附在所述基板保持部上；以及

基板旋转机构，使所述基板保持部以朝向上下方向的中心轴为中心旋转，

所述基板保持部具有：

板状的基部，具有与所述中心轴垂直的上表面；

吸引口，配置在所述基部的所述上表面，并与所述吸引部连接；

支承部，在所述基部的中央部的周围呈周状地配置，从所述基部的所述上表面向上方突出来支承所述基板的下表面；以及

具有可挠性的密封部，与所述基部在物理上区分，在所述支承部的周围以整周配置，所述密封部的上端部比所述支承部更靠上侧，

所述密封部是在未保持基板的状态下随着远离所述支承部而向上方延伸的环状板构件，

当所述基板保持部吸附所述基板时，在所述密封部的所述上端部与所述基板的所述下表面接触的状态下，经由所述吸引口吸引在所述基部与所述基板之间存在的气体，由此所述基板一边使所述密封部向下弯曲，一边靠近所述基部而与所述支承部接触。

2.一种基板处理装置，用于处理基板，其中，

所述基板处理装置具有：

基板保持部，从基板的下侧将基板保持为水平状态；

吸引部，吸引在所述基板保持部与所述基板之间存在的气体，从而使所述基板吸附在所述基板保持部上；以及

基板旋转机构，使所述基板保持部以朝向上下方向的中心轴为中心旋转，

所述基板保持部具有：

板状的基部，具有与所述中心轴垂直的上表面；

吸引口，配置在所述基部的所述上表面，并与所述吸引部连接；

支承部，在所述基部的中央部的周围呈周状地配置，从所述基部的所述上表面向上方突出来支承所述基板的下表面；以及

具有可挠性的密封部，在所述支承部的周围以整周配置，所述密封部的上端部比所述支承部更靠上侧，

所述支承部具有内侧支承部，所述内侧支承部与所述基部的所述中央部的外周邻接并呈周状地配置，

所述内侧支承部具有多个线状部，所述多个线状部分别是以所述中心轴为中心的圆弧状，

当所述基板保持部吸附所述基板时，在所述密封部的所述上端部与所述基板的所述下表面接触的状态下，经由所述吸引口吸引在所述基部与所述基板之间存在的气体，由此所述基板一边使所述密封部向下弯曲，一边靠近所述基部而与所述支承部接触。

3.一种基板处理装置，用于处理基板，其中，

所述基板处理装置具有：

基板保持部，从基板的下侧将基板保持为水平状态；

吸引部，吸引在所述基板保持部与所述基板之间存在的气体，从而使所述基板吸附在所述基板保持部上；以及

基板旋转机构，使所述基板保持部以朝向上下方向的中心轴为中心旋转，

所述基板保持部具有：

板状的基部，具有与所述中心轴垂直的上表面；

吸引口，配置在所述基部的所述上表面，并与所述吸引部连接；

支承部，在所述基部的中央部的周围呈周状地配置，从所述基部的所述上表面向上方突出来支承所述基板的下表面；以及

具有可挠性的密封部，在所述支承部的周围以整周配置，所述密封部的上端部比所述支承部更靠上侧，

所述支承部具有内侧支承部，所述内侧支承部与所述基部的所述中央部的外周邻接并呈周状地配置，

所述内侧支承部具有多个突起部，所述多个突起部与所述基板的所述下表面点接触，

当所述基板保持部吸附所述基板时，在所述密封部的所述上端部与所述基板的所述下表面接触的状态下，经由所述吸引口吸引在所述基部与所述基板之间存在的气体，由此所述基板一边使所述密封部向下弯曲，一边靠近所述基部而与所述支承部接触。