[发明专利]网格结构的制备方法及投射式电容触摸屏在审
| 申请号： | 201810161452.6 | 申请日： | 2018-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN108108064A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 邵源 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 可分离层 网格结构 基板 制备 预定材料层 投射式电容触摸屏 预定材料 精细度 图案化 去除 覆盖 申请 | ||
1.一种网格结构的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
提供基板，在所述基板上形成图案化的可分离层；
在所述基板上形成一层预定材料层，所述预定材料层覆盖所述可分离层和所述可分离层之外的基板，其中，所述预定材料层的厚度小于所述可分离层的厚度；
去除所述可分离层，以在所述基板上形成预定材料的网格结构。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述预定材料为导电材料。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，
所述导电材料为石墨烯掺杂3,4-乙烯二氧噻吩单体的聚合物、银纳米线、金属网格、铟锡氧化物中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述基板上形成图案化的可分离层，包括：
在所述基板上依次形成第一可分离层以及覆盖所述第一可分离层的掩膜层；
图案所述掩膜层；
以图案化的所述掩膜层为掩膜，图案所述第一可分离层，从而在所述基板上形成图案化的可分离层，
其中，所述第一可分离层的厚度大于所述预定材料层的厚度。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，
所述掩膜层的材料为压印胶或光刻胶。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，当所述掩膜层的材料为压印胶时，所述图案所述腌膜层，包括：
采用压印工艺图案所述掩膜层。
7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，当所述掩膜层为光刻胶时，所述图案所述腌膜层，包括：
采用黄光工艺图案所述掩膜层。
8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述以图案化的所述掩膜层为掩膜，图案所述第一可分离层，包括：
以图案化的所述掩膜层为掩膜，利用等离子刻蚀工艺图案所述第一可分离层。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述去除所述可分离层，以在所述基板上形成预定材料的网格结构，包括：
采用剥离工艺去除所述可分离层，以在所述基板上形成预定材料的网格结构。
10.一种投射式电容触摸屏，其特征在于，包括采用如权利要求1-9任一项所述的制备方法制备的网格结构。
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