[发明专利]一种盖板的制备方法及盖板

权利要求书

1.一种盖板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一玻璃基板；

在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜，并对所述玻璃基板形成有蚀刻掩膜的表面进行蚀刻，用以所述玻璃基板在对应蚀刻的表面上生成有折射率渐变的凸锥状减反射微结构；

其中，所述在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜的步骤具体包括：

提供由第一金属和第一酸性液体配比而成的混合液；

将所述玻璃基板置放于所述混合液中，投入活性度强于所述第一金属的第二金属，直至一部分的第二金属和另一部分由所述第二金属置换出的第一金属能混合均匀的分布于所述玻璃基板的表面上；

采用酸性弱于所述第一酸性液体的第二酸性液体冲洗所述玻璃基板表面的第二金属，使得所述玻璃基板表面形成有第一金属；

通过退火处理使所述玻璃基板上的第一金属形成颗粒状的紧密排列结构，并选择所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上所形成的颗粒状的紧密排列结构作为蚀刻掩膜；

其中，所述混合液为硫酸铜溶液，浓度为1-3mg/ml；所述第一金属为铜，所述第一酸性液体为硫酸；所述第二金属为铁，第二酸性液体为盐酸。

2.如权利要求1所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述玻璃基板由钢化玻璃制备而成或由普通玻璃制备后经钢化处理而成。

3.如权利要求1中所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述第二金属置换出的第一金属以球状或半球状的颗粒均匀的分布于所述玻璃基板的表面上，且颗粒粒径达到1-3微米。

4.如权利要求1所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜的步骤具体还包括：

在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上通过磁控溅射的方式形成一层金属膜，并通过退火处理使所述玻璃基板上的金属膜形成颗粒状，并将颗粒状的金属膜作为蚀刻掩膜。

5.如权利要求1所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述金属膜为1-5微米厚度的金属铜膜，且所述金属铜膜退火处理后形成球状或半球状的颗粒。

6.如权利要求1所述的盖板的制备方法的制备方法，其特征在于，采用反应离子刻蚀RIE或离子束辅助自由基刻蚀ICP的方式对所述玻璃基板形成有蚀刻掩膜的表面进行蚀刻。

7.如权利要求1所述的盖板的制备方法的制备方法，其特征在于，所述方法进一步包括：

对所述玻璃基板在对应蚀刻的表面上生成的凸锥状减反射微结构进行钢化工艺处理，用以增强所述凸锥状减反射微结构的硬度和耐摩擦性。

8.一种盖板，其特征在于，其采用如权利要求1-7中任一项所述的盖板的制备方法制备而成。