[发明专利]一种盖板的制备方法及盖板

说明书

本发明提供一种盖板的制备方法，包括提供一玻璃基板；在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜，并对所述玻璃基板形成有蚀刻掩膜的表面进行蚀刻，用以所述玻璃基板在对应蚀刻的表面上生成有折射率渐变的凸锥状减反射微结构。实施本发明，利用金属离子替代传统纳米压印工艺中压印胶材，增大压印蚀刻工艺中的蚀刻选择比，保证微结构具有较大的深宽比，实现在硬度较硬的玻璃盖板表面加工蛾眼微结构。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种盖板的制备方法及盖板。

背景技术

人们在使用手机时常常饱受环境光的困扰，较强的环境光不仅会降低手机的对比度，更会影响到面板显示的色度，给人们的阅读造成较大的困扰。通常在盖板表面进行抗反射镀膜，用以降低手机表面的反射率成为人们常用的手段。

然而，抗反射镀膜成本较高，且膜系结构设计和加工工艺较为复杂。为此通过在盖板表面上制备出类似蛾眼的微结构，也可以起到有效的抗反射作用。但是，在硬度较硬的玻璃盖板表面进行蛾眼微结构的加工时，由于玻璃盖板较硬，加工难度较大，如果采用传统纳米压印工艺中的压印胶材进行蚀刻，因蚀刻选择比较小而无法保证微结构具有较大的深宽比，会导致微结构加工的效果较差。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种盖板的制备方法及盖板，利用金属离子替代传统纳米压印工艺中压印胶材，增大压印蚀刻工艺中的蚀刻选择比，保证微结构具有较大的深宽比，实现在硬度较硬的玻璃盖板表面加工蛾眼微结构。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种盖板的制备方法，包括以下步骤：

提供一玻璃基板；

在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜，并对所述玻璃基板形成有蚀刻掩膜的表面进行蚀刻，用以所述玻璃基板在对应蚀刻的表面上生成有折射率渐变的凸锥状减反射微结构。

其中，所述玻璃基板由钢化玻璃制备而成或由普通玻璃制备后经钢化处理而成。

其中，所述在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜的步骤具体包括：

提供由第一金属和第一酸性液体配比而成的混合液；

将所述玻璃基板置放于所述混合液中，并继续投入活性度强于所述第一金属的第二金属将所述第一金属进行置换，直至一部分的第二金属和另一部分由所述第二金属置换出的第一金属能混合均匀的分布于所述玻璃基板的表面上；

采用酸性弱于所述第一酸性液体的第二酸性液体冲洗所述玻璃基板表面的第二金属，使得所述玻璃基板表面形成有第一金属；

通过退火处理使所述玻璃基板形成有的第一金属形成颗粒状的紧密排列结构，并选择所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上所形成的颗粒状的紧密排列结构作为蚀刻掩膜。

其中，所述第二金属置换出的第一金属以球状或半球状的颗粒均匀的分布于所述玻璃基板的表面上，且颗粒粒径达到1-3微米。

其中，所述混合液为硫酸铜溶液，浓度为1-3mg/ml；所述第一金属为铜，所述第一酸性液体为硫酸；所述第二金属为铁，第二酸性液体为盐酸。

其中，所述在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜的步骤具体还包括：

在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上通过磁控溅射的方式形成一层金属膜，并通过退火处理使所述玻璃基板上的金属膜形成颗粒状，并将颗粒状的金属膜作为蚀刻掩膜。

其中，所述金属膜为1-5微米厚度的金属铜膜，且所述金属铜膜退火处理后形成球状或半球状的颗粒。