[发明专利]触控面板的直接图案化方法及其触控面板

说明书

一种触控面板的直接图案化方法及其触控面板，直接图案化方法包括：提供基板，具有显示区与周边区，周边线路具有接合垫；设置金属纳米线层；设置半固化膜层；设置负型感光层；进行黄光微影，包括：将负型感光层进行曝光以定义去除区与保留区；以及使用显影液将位于去除区的负型感光层、膜层与金属纳米线层去除，以制作出设置于显示区的触控感应电极并裸露出接合垫，触控感应电极电性连接于周边线路，其中触控感应电极是由膜层与金属纳米线层所组成；其中在该保留区中，负型感光层覆盖于膜层与该金属纳米线层之上；以及固化膜层。

技术领域

本发明是关于一种触控面板的直接图案化方法及其触控面板。

背景技术

由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。金属氧化物薄膜可通过物理气象沉积法或化学气象沉积法而形成，并通过雷射工艺而形成适当图案。然而，这些金属氧化物薄膜的制作方法可能面临高昂的成本、复杂的工艺以及低良率的问题。在部份情况下，经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被观察到的问题。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。

然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺将纳米线涂布在显示区及周边区，并覆盖周边区的金属引线，之后利用蚀刻液将纳米线进行图案化，以在显示区制作出触控感应电极，并且蚀刻纳米线以在金属引线上裸露出焊接垫，以与外部电路板进行连接。上述工艺所采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致金属引线受到蚀刻液的作用，使产品可靠度下降；另外，蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。

再一方面，利用纳米线制作触控感应电极的工艺中，通常会需要在纳米在线成形外涂层(overcoat)，以保护纳米线并将纳米线固着于基板上，而上述工艺所采用的蚀刻液仅能移除纳米线，故进行蚀刻工艺后，外涂层会残留下来，残留的外涂层的厚度会在接触阻抗与电极保护性之间形成两难冲突(trade off)。具体而言，若考虑电极的保护性，残留的外涂层的厚度会尽可能的加厚，但在经过蚀刻后，焊接垫上残留外涂层的厚度过厚(例如大于20nm)，将造成焊接垫与外部电路板之间的接触阻抗过大，进而导致线路在传递信号时产生耗损或失真，也就是说，过厚的残留外涂层夹设在焊接垫与外部电路板之间，会造成产品在电性表现的问题。反之，若考虑接触阻抗，残留的外涂层的厚度会尽可能的减薄，但在经过蚀刻后，形成触控感应电极的纳米在线所残留外涂层的厚度太薄，将无法提供纳米线有效的保护，也就是说，过薄的残留外涂层会造成产品的耐用性不足的问题。

因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。

发明内容

本发明的部分实施方式，可提高显示区的触控感应电极的耐用性，并藉由接合垫与外部电路板的电极垫之间的直接接触结构，同时形成一低阻抗的导电线路。此外，本发明的部分实施方式中，提出了触控电极的直接图案化方法，因而产生不同于以往的触控面板结构。

本发明的部分实施方式提出一种触控面板的直接图案化方法，包括：提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区，其中一周边线路设置在该周边区，该周边线路具有一接合垫；设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区；设置一半固化的膜层于该金属纳米线层上；设置一负型感光层于该半固化的膜层上；进行一黄光微影步骤，包括：将该负型感光层进行曝光以定义出一去除区与一保留区；以及使用显影液将位于该去除区的该负型感光层、该膜层与该金属纳米线层去除，以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极并裸露出设置于该周边区的该接合垫，该触控感应电极电性连接于该周边线路，其中该触控感应电极是由该膜层与该金属纳米线层所组成；其中在该保留区中，该负型感光层覆盖于该膜层与该金属纳米线层之上；以及将该膜层进行一固化步骤。