[发明专利]紫外线传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810182696.2 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN108493339A 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 李胜夏;魏勤;蓝河 申请(专利权)人: 上海幂方电子科技有限公司
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201612 上海市松江*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 紫外线传感器 制备 有机半导体层 电极 沟道 循环稳定性 柔性基底 梳状结构 有效地 填充 打印 响应
【权利要求书】:

1.一种紫外线传感器,包括:

柔性基底;

多个电极,以相互间隔的方式设置于所述柔性基底上,相邻电极之间形成有沟道;以及,

有机半导体层,填充所述沟道;

其中,所述电极通过打印导电材料形成,所述有机半导体层通过打印有机半导体混合溶液形成。

2.根据权利要求1所述的紫外线传感器,其特征在于,所述有机半导体层还覆盖所述多个电极。

3.根据权利要求1所述的紫外线传感器,其特征在于,所述多个电极设置为梳状结构。

4.根据权利要求1所述的紫外线传感器,其特征在于,所述有机半导体混合溶液包括:有机半导体材料和有机聚合物的混合溶液;

其中,所述有机半导体材料包括2,7-二辛基[1]苯并噻吩并[3,2-b]苯并噻吩(2,7-Dioctyl[1]benzothieno[3,2-b][1]benzothiophene,C8-BTBT)、TIPS-Pantacene、PBTTT-C12和/或T-DPPT中的一种或多种,所述有机聚合物为聚苯乙烯、聚氯乙稀、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly Methyl Methacrylate,PMMA)或聚乳酸(Polylactic acid,PLA)等绝缘聚合物中的一种或多种。

5.根据权利要求4所述紫外线传感器,其特征在于,所述有机半导体混合溶液的溶剂为甲苯、间二甲苯、对二甲苯、邻二甲苯、1,2,3-三甲苯、1,2,4-三甲苯、1,3,5-三甲苯、四氢萘、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或苯甲醚中的一种或多种。

6.如权利要求1-5中任一项所述的紫外线传感器的制备方法,包括:

在柔性基底上通过喷墨打印导电材料形成多个电极;

在所述多个电极上通过喷墨打印有机半导体混合溶液形成有机半导体层。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述多个电极设置为梳状结构,相邻电极之间形成有沟道。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,在所述多个电极上通过喷墨打印有机半导体混合溶液形成有机半导体层还包括:

在所述沟道内通过喷墨打印有机半导体混合溶液形成有机半导体层;

其中,所述有机半导体混合溶液为以有机半导体材料和有机聚合物为溶质的混合溶液,其中,有机半导体材料的浓度为5~30mg/mL,有机聚合物的浓度为1~10mg/mL,所述有机半导体材料包括2,7-二辛基[1]苯并噻吩并[3,2-b]苯并噻吩(2,7-Dioctyl[1]benzothieno[3,2-b][1]benzothiophene,C8-BTBT)、TIPS-Pantacene、PBTTT-C12和/或T-DPPT中的一种或多种,所述有机聚合物为聚苯乙烯、聚氯乙稀、聚甲基丙烯酸甲酯(PolyMethyl Methacrylate,PMMA)或聚乳酸(Polylactic acid,PLA)等绝缘聚合物的一种或多种;所述有机半导体混合溶液的溶剂为甲苯,间二甲苯,对二甲苯,邻二甲苯,1,2,3-三甲苯,1,2,4-三甲苯和1,3,5-三甲苯,四氢萘,N,N-二甲基甲酰胺,二甲基亚砜和苯甲醚中的一种或多种。

9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述喷墨打印的喷头温度为45℃,基底温度为50℃,打印分辨率为15um。

10.根据权利要求6或8所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:

对所述有机半导体层进行后处理;

其中,所述后处理为在100℃下对有机半导体层加热10分钟。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海幂方电子科技有限公司,未经上海幂方电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810182696.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top