[发明专利]光学成像系统及电子装置

权利要求书

1.一种光学成像系统，其特征在于，包括：

一成像透镜组，其包括至少二片具有屈折力的透镜；以及

一成像面；

其中所述成像透镜组至少一片透镜具有正屈折力且所述成像透镜组在一标准温度ST时具有一标准有效焦距FST，其中，所述标准温度ST为摄氏25℃，所述成像透镜组的入射光瞳直径为HEP，所述成像透镜组的最大可视角度的一半为HAF，所述成像透镜组在所述标准温度ST时，其最接近物侧的透镜的物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS，最接近所述成像面的透镜的像侧面至所述成像面于光轴上具有一距离BHOS，所述成像透镜组在一第一工作温度WT1时，最接近所述成像面的透镜的像侧面至所述成像面于光轴上具有一距离BHOS1，其满足下列条件：2.0≤FST/HEP≤2.8；36deg≤HAF≤69.2861deg；WT1≤100℃；以及BHOS1/BHOS≥0.9。

2.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述第一工作温度WT1满足下列条件：-50℃<WT1≤100℃。

3.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述第一工作温度WT1满足下列条件：-40℃<WT1≤70℃。

4.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述成像透镜组中至少一片透镜的材质选取为在所述第一工作温度WT1且在参考波长为d-line时具有一第一折射率温度变化率DNT1，其满足下列条件：-200(10^-6/℃)≤DNT1<0(10^-6/℃)。

5.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述成像透镜组中至少一片透镜的材质选取为在一第二工作温度WT2且在参考波长为d-line时具有一第二折射率温度变化率DNT2，所述第二工作温度WT2低于所述第一工作温度WT1，其满足下列条件：ST<WT2<WT1；以及-200(10^-6/℃)≤DNT2<-1(10^-6/℃)。

6.如权利要求5所述的光学成像系统，其特征在于，所述第二工作温度WT2满足下列条件：-40℃<WT2≤50℃。

7.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述光学成像系统的最大成像高度HOI，可见光在所述成像面上的光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处于空间频率55cycles/mm的调制转换对比转移率分别以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示，其满足下列条件：MTFE0≥0.1；MTFE3≥0.01；以及MTFE7≥0.01。

8.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，以上述透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点，沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射光瞳直径的垂直高度处的坐标点为止，前述两点间的轮廓曲线长度为ARE，其满足下列条件：0.9≤2(ARE/HEP)≤2.0。

9.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，上述透镜中任一透镜的任一表面的最大有效半径以EHD表示，以上述透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点，沿着所述表面的轮廓直到所述表面的最大有效半径处为终点，前述两点间的轮廓曲线长度为ARS，其满足下列公式：0.9≤ARS/EHD≤2.0。

10.如权利要求1所述的光学成像系统，其特征在于，所述成像透镜组在所述第一工作温度WT1时具有一第一有效焦距FWT1，其满足下列条件：1<FWT1/FST≤5。