[发明专利]一种掩膜版以及具有槽体结构的显示屏及其制造方法有效
| 申请号： | 201810189805.3 | 申请日： | 2018-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN108417525B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 崔富毅 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/70 | 分类号： | H01L21/70;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 以及 具有 结构 显示屏 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有槽体结构的显示屏的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上覆盖掩膜版后，对所述衬底基板进行有机材料的篜镀；
将所述衬底基板上设计为开槽区的部分去除，形成具有槽体结构的显示屏；
其中，所述掩膜版对应于所述开槽区的版面包括覆盖所述开槽区边框处的半刻蚀区域和覆盖所述开槽区其余部分的全刻蚀区域。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述衬底基板上设计为开槽区的部分去除，具体包括：
沿未篜镀有机材料的边框处进行激光切割。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜版的孔隙为网状或条状。
4.根据权利要求1-3任一所述的方法，其特征在于，所述半刻蚀区域和全刻蚀区域是连接于一体的。
5.一种掩膜版，用于在有机材料篜镀前覆盖显示屏以形成具有槽体结构的所述显示屏，其特征在于，所述槽体结构位于听筒及摄像头在所述显示屏上的所在区域，所述掩膜版对应于衬底基板上设计为开槽区的版面包括：
覆盖所述开槽区边框处的半刻蚀区域和覆盖所述开槽区其余部分的全刻蚀区域；
其中，所述开槽区与所述槽体结构相对应。
6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版的孔隙为网状或条状。
7.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版具体为精细金属掩模版。
8.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述半刻蚀区域和全刻蚀区域是连接于一体的。
9.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版中除了对应于所述开槽区的版面，其它版面为全刻蚀的版面。
10.一种具有槽体结构的显示屏，其特征在于，为通过如权利要求5-9任一所述的掩膜版制作而成的。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
