[发明专利]硅片喷砂机用硅片输送装置

权利要求书

1.一种硅片喷砂机用硅片输送装置，设置于喷枪模组下方，其特征在于：包括输送架、真空载台和传动装置，所述真空载台可移动地放置于所述输送架上，其中，所述真空载台包括载台体和固定盘，所述载台体内设有真空腔室，所述固定盘上设有硅片固定区域，所述固定盘盖设于所述真空腔室上，所述硅片固定区域具有与所述真空腔室连通的用于固定硅片的多个通气孔；所述输送架具有上硅片端和下硅片端；所述传动装置沿所述输送架的长度方向设置，用于推动所述真空载台由所述输送架的上硅片端移动至下硅片端。

2.根据权利要求1所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：所述传动装置包括两个传动单元，两个所述传动单元分别设置于所述输送架的两侧，其中，每个所述传动单元均包括主动链轮、从动链轮和链条，所述主动链轮设置在所述下硅片端，所述从动链轮设置于所述上硅片端，所述链条与所述主动链轮和从动链轮连接，且所述链条上设有卡块；其中，两个所述传动单元的主动链轮之间及从动链轮之间均通过连接轴连接。

3.根据权利要求1所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：所述输送架包括两根平行设置的输送导轨，每根所述输送导轨设有凹槽，在所述凹槽内设有多个可转动滚轮，且所述滚轮的上表面不低于所述输送导轨的上表面。

4.根据权利要求2所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：还包括真空吸管，所述真空吸管的一端与真空泵连接，另一端与所述真空腔室可拆卸地连接，用于保持所述真空腔室内的真空状态，且所述真空吸管与所述真空腔室连接的一端随所述真空载台移动。

5.根据权利要求4所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：所述传动装置沿所述输送架的长度方向间隔地设有多个所述卡块。

6.根据权利要求5所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：包括多根真空吸管和与所述真空吸管数量相同的无杆气缸，每个所述无杆气缸均包括气缸导轨和套设于所述气缸导轨上的滑块，每根所述真空吸管均相对应地穿设固定于一个滑块上，随所述滑块移动；和/或所述上硅片端设置有上料架，所述下硅片端设置有下料架，且所述下料架高于所述输送架。

7.根据权利要求6所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：在所述上硅片端设有用于检测所述卡块的光电开关；在每根无杆气缸上均设置一个用于控制滑块移动的行程开关；在所述上料架上设置有用于推动所述真空载台的的上料气缸，当所述光电开关检测到所述卡块时，所述上料气缸推动所述真空载台移动，所述卡块转动到所述真空载台后侧，推动所述真空载台向所述下硅片端移动，同时复位相对应的行程开关，控制所述无杆气缸与所述真空载台同步移动。

8.根据权利要求1至7任一项所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：所述固定盘上间隔地设置有多个硅片固定区域，每个所述硅片固定区域对应固定一块硅片，且在每个所述硅片固定区域的边角部均设有定位块。

9.根据权利要求8所述的硅片喷砂机用硅片输送装置，其特征在于：所述载台体底部设有与所述输送架相配合的限位块，用于防止所述真空载台在移动过程发生倾斜或者横向移位。

10.根据权利要求1至9中所述的硅片喷砂机用硅片输送装置在输送硅片中的应用，所述输送硅片在利用硅片喷砂机对硅片进行喷砂时进行。