[发明专利]一种水中二氧化硅去除方法在审

专利信息
申请号: 201810193761.1 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN108439669A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 欧群飞;徐建洪 申请(专利权)人: 成都飞创科技有限公司
主分类号: C02F9/06 分类号: C02F9/06;C02F101/10
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 熊晓果;陈明龙
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 水中 二氧化硅 镁杂质 二氧化硅去除 除杂 气浮 去除 沉淀 废水 二氧化硅颗粒 二氧化硅杂质 电絮凝反应 加碱预处理 膜过滤装置 耐冲击负荷 工业应用 胶体颗粒 流程设计 氢氧化铝 氢氧化铁 清水回收 深度过滤 杂质颗粒 整体工艺 沉淀的 碱处理 胶体化 膜过滤 能力强 絮凝体 阳极板 铁板 极板 铝板 铝铁 电解 连贯 过滤 清水 水质 成熟 应用
【权利要求书】:

1.一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)加碱预处理:向待处理废水中加入碱性试剂,使水中二氧化硅及钙、镁杂质胶体化;

(2)电絮凝反应沉淀:将步骤1处理后的废水进行电絮凝处理,利用铝板、铁板或铝铁混合极板作为阳极板电解产生氢氧化铝或氢氧化铁絮凝体,所述氢氧化铝或氢氧化铁絮凝体吸附加碱处理后形成的二氧化硅和钙、镁杂质胶体颗粒,并共同沉淀;

(3)气浮除杂:步骤2处理后的废水用气浮除杂装置进行气浮除杂,继续将水中未来得及沉淀的胶体颗粒进一步去除,其中,在所述电絮凝反应沉淀处理过程中,未完全絮凝沉淀的二氧化硅及钙、镁杂质胶体颗粒可在气浮装置底部进一步沉淀;

(4)膜过滤:将步骤3处理后的废水用膜过滤装置进行过滤,实现对水中二氧化硅絮凝体杂质的深度过滤处理。

2.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,所述加碱预处理步骤中,可选用的碱性物质为氢氧化钠、氢氧化钙中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,所述加碱预处理步骤中,控制加碱后水溶液的pH=9-14,优选为pH=10-12。

4.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,在搅拌作用下,进行加碱预处理。

5.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,在电絮凝反应沉淀步骤中,所述电解电流为20-40A、50-60V的直流电。

6.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,在所述气浮除杂步骤中,控制曝气流速为气水比=10﹕1。

7.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,在所述膜过滤步骤中,控制水溶液以5-10m/h流速通过膜过滤装置。

8.根据权利要求1所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,经所述电絮凝反应沉淀分离出的二氧化硅及钙、镁杂质沉淀,可通过排污管排放到污泥浓缩池中进行处理。

9.根据权利要求1或7所述的一种水中二氧化硅去除方法,其特征在于,在所述气浮除杂步骤中,在气浮装置底部继续絮凝沉淀生成的二氧化硅及钙、镁杂质沉淀,可通过排污管排放到污泥浓缩池中进行处理。

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