[发明专利]一种水中二氧化硅去除方法

说明书

本发明公开了一种水中二氧化硅去除方法，主要包括：(1)加碱预处理，使水中二氧化硅及钙、镁杂质胶体化；(2)电絮凝反应沉淀：利用铝板、铁板或铝铁混合极板作为阳极板电解产生氢氧化铝或氢氧化铁絮凝体，吸附加碱处理后形成的二氧化硅和钙、镁杂质胶体颗粒，并共同沉淀；(3)气浮除杂：将经步骤2处理后的废水进行气浮除杂，去除水中难以沉淀的细微二氧化硅颗粒及其他杂质颗粒；(4)膜过滤：将步骤3处理后的废水用膜过滤装置进行过滤，实现对水中二氧化硅杂质的深度过滤处理。整体工艺去除二氧化硅彻底、成熟、流程设计合理、连贯，还能有效除去水中钙、镁杂质，改善处理后清水水质，提高处理后清水回收应用价值，耐冲击负荷能力强，具有较好的工业应用前景。

技术领域

本发明涉及水处理领域，特别涉及一种水中二氧化硅去除方法。

背景技术

随着社会进步、工业发展和人口的激增，环境污染问题不断加重，尤其是水资源的污染，使得人类可利用的淡水资源少之又少。科学家预计至2025年，世界上将会有2/3的人口面临严重的水资源短缺问题，甚至受到生活供水不足的危险。为了解决水资源的短缺问题，针对水资源的整体战略，世界各国都转向了全方位的、可持续的水资源利用。如何提高水的一次利用效率和水的重复利用效率，已经成为各行各业一项重要任务。

在工业用水中，很多行业都受到水中二氧化硅的限制，从用水量最大的冷却系统到高精度的电子行业，以及反渗透的浓水排水中二氧化硅的含量通常达到40-100mg/L，要想达到废水的零排放和回用，必须对废水中的二氧化硅进行深度去除。

目前，对于这类废水处理，国内外还没有资源化的例子，现有的方法包括混凝除硅、化学絮凝除硅、离子交换膜除硅等单一去除方法。其中，传统的化学絮凝法容易引起二次污染，无法达到深度去除二氧化硅的目的，离子交换膜法处理不仅价格昂贵而且对进水水质要求较高。并且，上述单一处理方法因实际水处理过程中水中二氧化硅及其他杂质含量变化不定，导致二氧化硅去除装置运行负荷大，耐冲击负荷能力弱，导致最终二氧化硅去除效果不理想问题。

发明内容

针对现有技术中所存在的上述不足，本发明目的在于提供一种水中二氧化硅去除方法，依据本发明所述去除方法，可灵活适应各类水质待处理废水中二氧化硅的深度去除，并同时有效去除废水中钙、镁杂质，降低水硬度，实现对废水有效回收利用。

为了实现上述发明目的，本发明提供了以下技术方案：

一种水中二氧化硅去除方法，包括如下步骤：

(1)加碱预处理：向待处理废水中加入碱性试剂，使水中二氧化硅及钙、镁杂质胶体化；

(2)电絮凝反应沉淀：将步骤1处理后的废水进行电絮凝处理，利用铝板、铁板或铝铁混合极板作为阳极板电解产生氢氧化铝或氢氧化铁絮凝体，所述氢氧化铝或氢氧化铁絮凝体吸附加碱处理后形成的二氧化硅和钙、镁杂质胶体颗粒，并共同沉淀；

(3)气浮除杂：步骤2处理后的废水用气浮除杂装置进行气浮除杂，继续将水中未来得及沉淀的胶体颗粒进一步去除，其中，在所述电絮凝反应沉淀处理过程中，未完全絮凝沉淀的二氧化硅及钙、镁杂质胶体颗粒可在气浮装置底部进一步沉淀；

(4)膜过滤：将步骤3处理后的废水用膜过滤装置进行过滤，实现对水中二氧化硅杂质的深度过滤处理。