[发明专利]光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201810194565.6 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN108572404B 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 槙野宪治;中山宽晴;龟野优 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 构件 摄像 设备 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学构件,其特征在于包括:

基材;和

在所述基材上的包含彼此结合的多个链状颗粒且在550nm的波长下的折射率为1.20以上且1.27以下的膜,其中

所述膜以在1.0mg/cm3以上且2.8mg/cm3以下的范围内的量包括具有醚键或酯键且具有碳原子数为4至7的支化结构的醇。

2.根据权利要求1所述的光学构件,其中

所述醇为1-丙氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、2-异丙氧基乙醇和3-甲氧基-1-丁醇中的任一者。

3.根据权利要求1所述的光学构件,其中

所述链状颗粒由二氧化硅构成。

4.根据权利要求1所述的光学构件,其中

所述链状颗粒的短轴为10nm以上且50nm以下并且长轴为60nm以上且200nm以下。

5.根据权利要求1所述的光学构件,其中所述膜在所述链状颗粒间包括孔隙。

6.根据权利要求1所述的光学构件,其中

所述链状颗粒在颗粒的接触点处由粘结剂彼此结合。

7.根据权利要求6所述的光学构件,其中

所述粘结剂包括硅氧烷键。

8.根据权利要求1所述的光学构件,其中

所述膜的厚度为80nm以上且200nm以下。

9.根据权利要求1所述的光学构件,其中

孔隙率的至少一个最大峰存在于膜中的在从所述膜的基材侧的膜厚度的小于一半处,所述孔隙率的水平沿远离所述基材的方向从所述最大峰降低,并且孔隙率的所述最大峰和孔隙个数的最大峰出现于沿所述膜厚度方向基本上相同的位置。

10.根据权利要求1所述的光学构件,其进一步包括:

在所述基材与所述膜之间的层叠体,所述层叠体由具有彼此不同的折射率的材料的堆叠层构成。

11.根据权利要求10所述的光学构件,其中所述层叠体由以下材料的组合构成:选自由氧化锆、氧化钛、氧化钽、氧化铌和氧化铪组成的组的材料和选自由氧化铝、氧化硅和氟化镁组成的组的材料。

12.一种摄像设备,其具有拍摄光学系统,其特征在于,所述拍摄光学系统包括根据权利要求1所述的光学构件。

13.一种光学构件的制造方法,其特征在于包括:

将分散在具有醚键或酯键且具有碳原子数为4至7的支化结构的醇中的链状颗粒的分散液供给至基材的至少一个表面上;和

将供给在所述基材上的所述分散液干燥和/或烧制以形成膜。

14.根据权利要求13所述的光学构件的制造方法,其中

所述分散液包括粘结剂,所述粘结剂在颗粒间形成硅氧烷键。

15.根据权利要求14所述的光学构件的制造方法,其中

所述分散液以0.2wt%以上且小于1.5wt%的量包括所述粘结剂。

16.根据权利要求14所述的光学构件的制造方法,其中

所述分散液通过以下来制备:将通过使烷氧基硅烷与包含催化剂的水混合和反应获得的用于形成所述粘结剂的溶液以及通过将所述链状颗粒分散在所述醇中获得的溶液混合。

17.根据权利要求16所述的光学构件的制造方法,其中

所述烷氧基硅烷为硅酸乙酯。

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