[发明专利]光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法

说明书

本发明涉及一种光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法。根据本发明的光学构件包括在基材上的包含多个链状颗粒且在550nm的波长下的折射率为1.21以上且1.27以下的膜。所述膜以1.0mg/cm³以上且2.8mg/cm³以下的范围包括具有醚键或酯键且具有碳原子数为4至7的支化结构的醇。

技术领域

本发明涉及包括包含颗粒的防反射膜的光学构件和光学构件的制造方法。

背景技术

为了抑制光学构件的光入射和出射界面处的反射，已知的是形成防反射膜，所述防反射膜为由具有不同的折射率的光学膜构成并且堆叠至数十至数几百纳米的厚度的单层或多层。此类防反射膜通过如汽相沉积和溅射等真空成膜法或如浸涂法和旋涂法等湿式成膜法来形成。

已知的是，防反射膜的最外层的材料为具有低的折射率的透明材料，例如，如二氧化硅、氟化镁和氟化钙等无机材料，和如硅树脂和无定形氟树脂等有机材料。

日本专利特开No.2007-65522公开了一种光学部件，其在基材上包括包含二氧化硅反应产物的防反射膜，所述二氧化硅反应产物通过包括链状二氧化硅、含水解性基团的二氧化硅和水的二氧化硅混合物的水解和脱水缩合来获得。

发明内容

本发明的光学构件包括：在基材上的包含多个链状颗粒且在550nm的波长下的折射率为1.21以上且1.27以下的膜。所述膜以1.0mg/cm³以上且2.8mg/cm³以下的范围包括具有醚键或酯键且具有碳原子数为4至7的支化结构的醇。

另外，根据本发明的光学构件的制造方法包括：将分散在具有醚键或酯键且具有碳原子数为4至7的支化结构的醇中的链状颗粒的分散液供给至基材的至少一个表面上的步骤；和将供给在所述基材上的所述分散液干燥和/或烧制以形成膜的步骤。

本发明的进一步特征将参考附图从示例性实施方案的以下说明变得明显。

附图说明

图1为表明本发明的光学构件的一个实施方案的示意图。

图2为示出光波长与根据本发明的光学构件的相对反射率之间的关系的图。

图3为表明本发明的光学构件的另一个实施方案的示意图。

图4为实施例1的光学构件的扫描透射电子显微镜照片。

图5A为实施例1的防反射膜的截面的电子显微镜照片；图5B为图5A中的照片的二值化图像；并且图5C示出图5B中的图像与基材平行地分割的各区域中的孔隙个数和孔隙率的计算结果。

图6A为比较例9的防反射膜的截面的电子显微镜照片；图6B为图6A中的照片的二值化图像；并且图6C示出图6B中的图像与基材平行地分割的各区域中的孔隙个数和孔隙率的计算结果。

图7A和7B分别为示出实施例1和比较例9的防反射膜的孔隙率或孔隙个数与沿厚度方向的位置之间的关系的图。

图8A和8B分别为示出相当于实施例1和比较例9的各光学构件的光波长与相对反射率之间的关系的图。

具体实施方式

在通过日本专利特开No.2007-65522的制造方法生产的防反射膜中，低的折射借助热固化期间发生的涂膜中的溶剂的蒸发形成的孔隙来实现。

在日本专利特开No.2007-65522中，为了提高用于形成防反射膜的涂料中的颗粒的分散性，将分散剂添加至涂料。然而，如果用于形成防反射膜的涂料包含分散剂，则所得膜中的孔隙填充有分散剂以防止折射率的降低。如果孔隙的尺寸增加以降低折射率，则由于孔隙导致的光散射增加，导致难以实现低的光散射与低的折射率之间的兼容性。