[发明专利]激光发生器、结构光投射器、图像获取结构和电子装置

说明书

本发明公开了一种激光发生器。激光发生器包括衬底和发光元件阵列。发光元件阵列设置在衬底上。发光元件阵列包括基础阵列和附加阵列。基础阵列形成基础区域，附加阵列形成附加区域。基础阵列包括至少三个基础子阵列，每个基础子阵列形成基础子区域。基础区域包括公共区域，公共区域至少位于三个基础子区域上，公共区域位于附加区域内。本发明还公开了一种结构光投射器、图像获取结构和电子装置。公共区域至少位于三个基础子区域上，且公共区域位于附加区域内，使得附加区域与至少三个基础子区域相交，也就是附加阵列与至少三个基础子阵列交叠，以形成更多种类的发光元件的排列方式，提高了发光元件阵列的局部不相关性。

技术领域

本发明涉及光学及电子技术领域，更具体而言，涉及一种激光发生器、结构光投射器、图像获取结构和电子装置。

背景技术

在3D成像中，采集器可以采集结构光投射器发射的散斑图案，并由处理器进一步处理以进行成像，为了提高成像的精度和准确率，激光投射器发射的散斑图案要求具有较高的局部不相关性，结构光投射器一般采用垂直腔面发射激光器(Vertical CavitySurface Emitting Laser，VCSEL)作为光源，而VCSEL上的发光元件的排列方式的局部不相关性有待进一步提高。

发明内容

本发明实施方式提供一种激光发生器、结构光投射器、图像获取结构和电子装置。

本发明实施方式的激光发生器包括：

衬底；和

设置在所述衬底上的发光元件阵列，所述发光元件阵列包括基础阵列和附加阵列，所述基础阵列形成基础区域，所述附加阵列形成附加区域，所述基础阵列包括至少三个基础子阵列，每个所述基础子阵列形成基础子区域，所述基础区域包括公共区域，所述公共区域至少位于三个所述基础子区域上，且所述公共区域位于所述附加区域内。

在某些实施方式中，至少三个所述基础子阵列均相同，所述附加阵列与所述基础子阵列相同。

在某些实施方式中，至少三个所述基础子阵列均相同，所述附加阵列由所述基础子阵列通过变换的方式产生，所述变换的方式包括旋转、镜像和缩放中的一种或多种的组合。

在某些实施方式中，至少三个所述基础子阵列和所述附加阵列可以由任意一个所述基础子阵列通过变换的方式产生，所述变换的方式包括旋转、镜像和缩放中的一种或多种的组合。

在某些实施方式中，所述基础子阵列的发光元件规则分布或不规则分布。

在某些实施方式中，所述附加阵列和每个所述基础子阵列可被单独驱动以发射光线。

本发明实施方式的结构光投射器包括：

基板组件；和

上述任一实施方式所述的激光发生器，所述激光发生器设置在所述基板组件上。

在某些实施方式中，所述结构光投射器还包括：

镜筒，所述镜筒包括镜筒侧壁，所述镜筒侧壁设置在所述基板组件上并与所述基板组件共同形成收容腔；

准直元件，所述准直元件收容在所述收容腔内；和

衍射光学元件，所述衍射光学元件收容在所述收容腔内，所述激光发生器用于向所述收容腔内发射激光，所述准直元件和所述衍射光学元件依次设置在所述激光发生器的光路上。

在某些实施方式中，所述镜筒包括自所述镜筒侧壁向所述收容腔内凸出的限位凸起，所述衍射光学元件安装在所述限位凸起上，所述激光发生器还包括保护盖，所述保护盖与所述镜筒结合，所述保护盖包括保护顶壁，所述衍射光学元件位于所述限位凸起与所述保护顶壁之间。