[发明专利]阵列基板有效

专利信息
申请号: 201810201256.7 申请日: 2018-03-12
公开(公告)号: CN108490674B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 邱孝豪;简钰峰 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G09F9/00
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 阵列
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包含:

一基板,包含一第一区与一第二区,该第一区环绕该第二区;

一遮光图案层,位于该基板上,其中该遮光图案层包含多数第一裸露区位于该第一区内而不位于该第二区内,且该些多数第一裸露区对应于该第一区,该遮光图案层于该第一区的遮蔽百分比率系介于80%与100%之间,该遮光图案层更包含多数第二裸露区位于该第二区而不位于该第一区内;

一阵列,位于该基板上及该第二区,而不位于该第一区,该阵列为触控阵列、像素阵列或前述的组合;及

多数遮蔽块,位于该第一区且位于该遮光图案层上,且该遮光图案层位于该些多数遮蔽块及该基板之间,该些遮蔽块为多数走线,该些走线电性连接至该阵列,且该些遮蔽块对应于该些第一裸露区设置以遮蔽该些第一裸露区,其中该些遮蔽块的材质包含金属,其中各该遮蔽块的边缘和对应的该第一裸露区的边缘间的水平距离至少为2微米,其中各该走线的宽度大于各该第一裸露区的宽度且遮蔽各该第一裸露区。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该些第一裸露区的形状对应于该些走线的形状。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该些第一裸露区中的至少一个的大小相等于该些第二裸露区中的至少一个的大小,对应于该基板的该第一区配置的该些第一裸露区相同于对应于该基板的该第二区配置的该些第二裸露的排列方式进行排列,以减少目视可视性问题。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,该些遮蔽块彼此相间隔。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,更包含:

多数透明导电膜,分别对应于该些第一裸露区设置,并且位于该基板以及该些遮蔽块之间。

6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,该些透明导电膜的材质选自氧化铟锡所组成的族群,且该些遮蔽块的材质选自钼、铝所组成的族群或钛、铝所组成的族群。

7.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,各该透明导电膜的边缘与对应的该第一裸露区的边缘间的水平距离大于或等于0微米且该些透明导电膜彼此相间隔。

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